[发明专利]一种BiVO4纳米片复合型光催化剂及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410255631.8 申请日: 2014-06-11
公开(公告)号: CN104001496A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 唐紫蓉;于倩倩 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: B01J23/22 分类号: B01J23/22;B01J23/648;C02F1/30;C02F101/38
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 bivo sub 纳米 复合型 光催化剂 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

发明属于催化剂制备以及环境可持续发展领域,具体涉及一种BiVO4纳米片复合型光催化剂及其制备方法和应用。

背景技术

日益严峻的环境问题和能源的匮乏使得人们不断地致力于光催化污染物的降解以及光解水的研究中。由于太阳光中大部分是可见光,从充分利用太阳能的角度出发,开发可见光驱使的光催化剂是非常有必要的。

近些年来,单斜相的钒酸铋作为一种可见光催化剂已经被许多化学工作者广泛而深入的研究。BiVO4的禁带宽度为2.4~2.5 eV,它能够很好的利用可见光产生电子与空穴,进而参与光催化反应。光激发BiVO4产生的空穴具有很强的氧化能力,并且由于空穴的有效质量比较低,这使其可以迅速的从固体内部扩散至表面。目前,BiVO4作为可见光催化剂被应用于污水净化和光解水产氧。BiVO4作为光催化剂具有三大优点,即,无毒、廉价、稳定,然而它也有自身的局限性。首先BiVO4对有机物的吸附能力比较差,这与BiVO4等电点较低有关;其次是BiVO4中光激发电子空穴对容易复合,使载流子的分离效率低,这使得BiVO4在光催化领域的应用受到很大的限制。因此,要提高BiVO4的光催化活性,我们就必须从提高其载流子分离效率入手。其中一种可以有效抑制光生载流子复合的方法是利用助催化剂去转移BiVO中光激发产生的电子。

自石墨烯被发现就受到广大科研工作者的青睐,因为石墨烯自身所具备的π共轭结构中有大量的离域态电子,这赋予石墨烯良好的导电性能。此外,二维片状结构的石墨烯具备大的比表面积、良好的透明度以及高的化学稳定性,所以石墨烯常被用作助催化剂。目前,一些BiVO4–GR复合物已经制备出来。这些BiVO4–GR复合物比相应的空白BiVO4表现出了更好的光催化活性,主要有原因归结于BiVO4–GR复合物中石墨烯的引入使BiVO4中光激发产生的电子可以通过石墨烯进行有效的转移,提高了载流子的分离效率,进而使催化剂活性提高。然而,关于二维BiVO4纳米片–二维石墨烯复合物的制备及其性能的研究,目前还没有报导。此外,在目前所合成的所有的BiVO4–GR复合物中,其界面电子转移路径的优化却被大家忽略,这使BiVO4–GR复合物中光生载流子的分离效率不能最大限度的提高,进而限制了BiVO4–GR复合物活性的进一步提高。因此,通过水热处理Pd修饰的氧化石墨烯(GO)和BiVO4纳米片,我们制备了三元BiVO4纳米片–GR–Pd复合物。与二元的BiVO4纳米片–GR复合相比,三元BiVO4纳米片–GR–Pd复合物在降解工业染料废水中的罗丹明B和甲基橙的过程中表现出了显著提高的光催化活性;而三元复合物活性显著提高的原因归结于Pd在BiVO4纳米片与石墨烯界面间的引入优化了载流子的界面转移路径,这使得载流子的寿命延长,进而提高了BiVO4–GR–Pd三元复合物的活性。这也进一步证实了界面组分的优化有利于光激发载流子在界面处的转移和分离,进而提高催化剂的活性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种BiVO4纳米片复合型光催化剂及其制备方法和应用,具有光催化活性高、制作成本低、生产工艺简单、可宏观制备等特点,所制备的BiVO4纳米片复合型光催化剂在可见光下降解染料废水中的罗丹明B和甲基橙时表现出了明显提高的光催化活性。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种BiVO4纳米片复合型光催化剂,所述的BiVO4纳米片具有二维片状结构,所述的BiVO4纳米片复合型光催化剂分为两类:一类为二元BiVO4纳米片–石墨烯复合光催化剂,另一类为三元BiVO4纳米片–石墨烯–钯复合光催化剂。

二元BiVO4纳米片–石墨烯复合光催化剂的制备方法包括以下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410255631.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top