[发明专利]一种铜电解液脱除As、Sb、Bi的复合工艺有效
申请号: | 201410257049.5 | 申请日: | 2014-06-11 |
公开(公告)号: | CN104018185A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 张海宝;王玮;叶薇 | 申请(专利权)人: | 中国瑞林工程技术有限公司 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12;C25C7/06 |
代理公司: | 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 | 代理人: | 欧阳沁 |
地址: | 330063 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电解液 脱除 as sb bi 复合 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种铜电解液脱除As、Sb、Bi的复合工艺,应用于铜冶炼电解液除杂工序,对各种As、Sb、Bi含量的铜阳极板都适用,属于冶金技术领域。
背景技术
目前,铜冶炼厂电解液As、Sb、Bi净化普遍采用电积诱导脱铜脱砷法。该方法电耗高,容易产生剧毒H3As气体,脱砷产物含大量铜,需返回火法系统分离铜砷,增加了生产成本和造成系统砷富集。
溶剂萃取法和溶液自净化法可以有选择性的脱除As和Sb、Bi,减少电积诱导脱铜脱砷的净液量。
1. 溶剂萃取法
磷酸三丁酯(TBP)对As(Ⅴ)有很好的萃取性能,2-乙基已醇对As(Ⅲ)有很好的萃取性能。采用TBP单独萃取或TBP+2-乙基已醇混合萃取时,其反应速率快,萃取效率高,有机相中As容易被反萃;向浓缩后反萃液中鼓入SO2,可使As以As2O3的形式结晶出来。该法不产生剧毒H3As气体,产品为As2O3晶体,解决As元素开路问题。但Sb、Bi不被萃取,不适合处理高Sb、Bi含量的铜电解液。
2. 溶液自净化法
溶液自净化法的实质就是在不添加杂质离子的前提下,通过改变工艺条件来加速电解过程中As、Sb、Bi形成复杂氧化物沉淀,以减少电积诱导脱铜脱砷的净液量。有研究工作者往铜电解液中添加含As化合物,发现As(Ⅲ)比As(Ⅴ)有更好的自净化效果。添加亚砷酸铜,维持电解液中As(T)浓度为11.16g/L,连续高砷电解13天,电流密度为别为245A/m2和305A/m2时所得阴极铜结晶细致、物理外观合格,化学成分优于GB/T467-97中规定的CATH-1阴极铜标准。该法可以使阳极铜中Sb、Bi几乎全部进入阳极泥,As进入阳极泥的量增加,电积诱导脱铜脱砷时需脱除As的量明显较少,能耗相对于传统诱导脱铜脱砷法显著降低。但亚砷酸铜需要单独制备,成本较高,电解液中多余As仍通过电积诱导脱铜脱砷法脱除,容易产生剧毒H3As气体,As主要进入黑铜板和黑铜粉,需要返回火法系统处理,使As在火法系统富集,不能解决As的开路问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能净化铜电解液中As、Sb、Bi杂质的复合新工艺,改变当前电积诱导脱铜脱砷法电耗高、易产生剧毒H3As气体和脱As产物含大量铜,需返回火法系统的弊端。本发明文中:As(Ⅴ)为五价砷离子,As(Ⅲ)为三价砷离子,As为三价和五价之和。
本发明如下:
一种铜电解液脱除As、Sb、Bi的复合工艺,其特征在于所述的复合工艺由主、辅助工艺组成,具体如下:
主工艺
溶剂萃取除As
抽取的溶剂萃取除As料液为电解液、一次电积脱铜液或硫酸铜结晶母液,以TBP+2-乙基已醇或TBP为萃取剂,260#溶剂油为稀释剂,采用5级逆流萃取+1级洗涤+2级逆流反萃,萃余液除油后5-95%(v/v)返回电解循环系统,剩余部分送脱镍系统;负载有机相经洗涤和反萃后,洗涤液和空载有机相均返回萃取;反萃液经除油、SO2还原后30-95%(v/v)的用于制备As2O3晶体,剩余部分制备亚砷酸铜晶体;制备As2O3晶体的反萃液或直接加石灰生成砷酸钙堆存。
制备亚砷酸铜
制备亚砷酸铜原料为反萃液;用浓度5-100% (v/v)SO2气体还原As(Ⅴ)为As(Ⅲ),按摩尔量Cu:As=1.5加入CuSO4溶液,用NaOH调节溶液至pH=6.0时亚砷酸铜晶体沉降完全;滤液加石灰沉淀剩余As、Cu离子,含As、Cu渣返回火法炼铜系统。
③ 高As电解除Sb、Bi
高As溶液自净化添加含As化合物为亚砷酸铜晶体,添加方式为用电解液充分溶解、过滤除渣后再连续添加;维持电解液含As浓度为10~20 g/l。
辅助工艺
脱镍液二次除Sb、Bi
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