[发明专利]具有微带谐振器的等离子体产生装置

权利要求书

1.一种等离子体产生装置，包括：

衬底，其具有第一表面和第二表面；

谐振环形结构，其布置在所述衬底的第一表面上，所述谐振环形结构具有被选择以支持具有沿谐振环形结构的长度的一个以上电场最大值的至少一个驻波的尺寸；

接地平面，其布置在所述衬底的第二表面上；以及

设备，其配置成在所述电场最大值的位置提供气体。

2.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，还包括电极延伸，其在每个电场最大值的位置连接至所述谐振环形结构。

3.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，其中，所述谐振环形结构还包括微带传输线。

4.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，其中，所述设备包括气体流动元件，其配置成在每个电场最大值的位置上提供气体。

5.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，还包括：

多个结构，其中的每个布置成相邻于所述第一表面以形成基本上包围每个电场最大值的位置的相应外壳。

6.根据权利要求2所述的等离子体产生装置，还包括多个结构，其中的每个设置在相应一个所述电极延伸上，每个结构配置成包含等离子体。

7.根据权利要求3所述的等离子体产生装置，所述微带传输线具有在所述谐振环形结构与接地平面之间的空隙，其中，气体设置在所述空隙中以产生等离子体。

8.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，其中，谐振环形结构是阻抗匹配的，其在谐振频率与将微波功率提供给所述谐振环形结构的电源的阻抗相匹配。

9.根据权利要求2所述的等离子体产生装置，其中，所述电极延伸布置在所述衬底的第一表面上。

10.根据权利要求9所述的等离子体产生装置，其中，每个电场最大值都位于相应电极延伸的上方。

11.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，其中，所述谐振环形结构包括与第二环同心的第一环，且所述第一环耦合至所述第二环。

12.根据权利要求11所述的等离子体产生装置，其中，所述第一环是微带传输线，所述第二环是微带传输线。

13.一种等离子体产生系统，包括：

电源；

气体馈给线；以及

等离子体产生装置，其包括：

衬底，其具有第一表面和第二表面；

谐振环形结构，其布置在所述衬底的第一表面上，所述谐振环形结构具有被选择以支持具有沿谐振环形结构的周长的一个以上电场最大值的至少一个驻波的尺寸；接地平面，其布置在所述衬底的第二表面上；以及设备，其配置成在所述电场最大值的位置提供气体。

14.根据权利要求13所述的系统，还包括电极延伸，其在每个电场最大值的位置连接至所述谐振环形结构。

15.根据权利要求13所述的系统，其中，所述谐振环形结构还包括微带传输线。

16.根据权利要求13所述的系统，其中，所述设备包括气体流动元件，其配置成在每个电场最大值的位置上提供气体。

17.根据权利要求13所述的系统，其中，所述等离子体产生装置还包括：

多个结构，其中的每个布置成相邻于所述第一表面以形成基本上包围每个电场最大值的位置的相应外壳。

18.根据权利要求14所述的系统，还包括多个结构，其中的每个设置在相应一个所述电极延伸上，每个结构配置成包含等离子体。