[发明专利]拼接式旋转靶及其形成方法无效
申请号: | 201410261333.X | 申请日: | 2014-06-12 |
公开(公告)号: | CN104032275A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 储培鸣;江昌翰 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;郑特强 |
地址: | 201500 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 拼接 旋转 及其 形成 方法 | ||
1.一种拼接式旋转靶,包括内管和与其同轴心的靶材坯料以及设置在所述内管与所述靶材坯料之间的接合层,其特征在于,
所述靶材坯料由至少两个靶材坯料段构成,且所述两个靶材坯料段之间的接缝处存在拼接面。
2.如权利要求1所述的拼接式旋转靶,其特征在于,所述接缝是一个斜面。
3.如权利要求2所述的拼接式旋转靶,其特征在于,所述内管包括一轴线,所述斜面与所述轴线之间形成10度至60度的夹角。
4.如权利要求1所述的拼接式旋转靶,其特征在于,在纵剖面上所述接缝呈现如下的一种形状:弧形,’V’字形,折线形和波浪形。
5.如权利要求1-4中任一项所述的拼接式旋转靶,其特征在于,所述靶材坯料包括ITO或IGZO。
6.如权利要求1-4中任一项所述的拼接式旋转靶,其特征在于,所述接合层为熔点低于600℃的低熔点金属粘接层。
7.如权利要求6所述的拼接式旋转靶,其特征在于,所述低熔点金属粘接层包括铟、锡和锌中的至少一种。
8.一种拼接式旋转靶的形成方法,包括:
提供至少两个靶材坯料段和内管,其中待接合的所述两个靶材坯料段具有形状彼此适配的端部;
把所述至少两个靶材坯料段进行拼接,并且利用接合材料把拼接后的所述至少两个靶材坯料段接合到所述内管的外表面上,以形成所述旋转靶;
其中在所述至少两个靶材坯料段拼接形成的接缝处存在拼接面。
9.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,在纵剖面上所述接缝呈现如下的一种形状:斜线形,弧形,’V’字形,折线形和波浪形。
10.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,所述接合材料包括铟、锡和锌中的至少一种,把所述至少两个靶材坯料段进行拼接的步骤包括:
把所述至少两个靶材坯料段逐个套设在所述内管上,使所述至少两个靶材坯料段的待拼接端部互相对准接触;以及
把加热到熔融状态的接合材料填充到所述内管与所述至少两个靶材坯料段之间,并进行冷却。
11.如权利要求8-10中任一项所述的形成方法,其特征在于,所述至少两个靶材坯料段均包括ITO或IGZO。
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