[发明专利]一种奈必洛尔中间体晶体及其制备方法在审
| 申请号： | 201410262303.0 | 申请日： | 2014-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN105198848A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 葛纪龙;沈征;董秀忠;屠永锐;彭文;毛秋霞;王艳 | 申请（专利权）人： | 常州市第四制药厂有限公司 |
| 主分类号： | C07D311/02 | 分类号： | C07D311/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213004 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 奈必洛尔 中间体 晶体 及其 制备 方法 | ||
1.下式(I)所表示的奈必洛尔中间体的晶体，
其特征在于所述的晶体使用Cu-Kα射线λ＝1.5405A测得的X射线粉末衍射图在2θ值(度)约9.22、12.26、16.36、16.64、18.50、19.00、19.56、19.98、20.66、21.32、22.74、25.18、26.08、26.62、28.48、28.94、29.58、29.96、32.62、33.10、34.02、34.96、35.24、35.60、37.64、37.96处有特征峰。
2.根据权利要求1所述的晶体，其特征在于其X射线粉末衍射图的2θ(衍射峰位置)和I(衍射峰强度)特征如下表所示：
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