[发明专利]一种锂离子电池负极片及其二次电池有效
申请号: | 201410263444.4 | 申请日: | 2014-06-13 |
公开(公告)号: | CN104810505A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 葛民民;石先兴;吕豪杰 | 申请(专利权)人: | 万向A一二三系统有限公司;万向电动汽车有限公司;万向集团公司 |
主分类号: | H01M4/134 | 分类号: | H01M4/134;H01M4/1395 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 311215 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 锂离子电池 负极 及其 二次 电池 | ||
1. 一种锂离子电池负极片,包括集流体和硅基负极材料;其特征在于,负极片制作完成之后镀一层镀锂层。
2. 根据权利要求1所述的锂离子电池负极片,其特征在于,镀锂层选用高纯锂靶材,纯度大于99.95%。
3. 一种如权利要求1所述的锂离子电池负极片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1) 选用所述集流体和所述硅基负极材料制作的硅基基体极片作为基片;
(2) 在所述基片上沉积镀锂层,做成锂离子电池负极片。
4. 如权利要求3所述沉积镀锂层,其特征在于,使用磁控溅射法。
5. 根据权利要求4所述的磁控溅射镀锂层的制备方法,其特征在于,工作条件为:本底真空度为1.0×10-5至1.0×10-3Pa;溅射时工作气压为0.1-1.0Pa;氩气Ar的流量为40-60sccm;溅射功率为1-40W/cm2。
6. 根据权利要求4所述的磁控溅射镀锂层的制备方法,其特征在于,所述溅射制备的镀锂层厚度在10-2000nm之间。
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