[发明专利]一种片式宽域氧传感器芯片的制作方法无效
申请号: | 201410268513.0 | 申请日: | 2014-06-16 |
公开(公告)号: | CN104034781A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 黄海琴;宗红军;黄海军 | 申请(专利权)人: | 深圳市普利斯通传感科技有限公司;江澍 |
主分类号: | G01N27/409 | 分类号: | G01N27/409 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 冯筠 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区松岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 片式宽域氧 传感器 芯片 制作方法 | ||
1.一种片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1,将氧化钇稳定氧化锆粉体制成稳定均匀的浆料并流延,剪切形成第一层流延基片、第二层流延基片、第三层流延基片、第四层流延基片、第五层流延基片以及第六层流延基片;
步骤2,对第二层流延基片进行打孔形成扩散空腔,对第三层流延基片进行打孔形成扩散通道,对第四层流延基片进行打孔形成反应空腔,对第六层流延基片进行打孔形成导电孔;
步骤3,在第三层流延基片的上表面丝网印刷信号外泵电极和保护层,在下表面丝网印刷有信号内泵电极;在第三层流延基片与第四层流延基片之间印刷有参比电极以及覆盖在参比电极上下表面的第一绝缘层;在第五层流延基片与第六层流延基片之间印刷有加热电极以及覆盖在加热电极的上下表面的第二绝缘层;在第六层流延基片的导电孔中填充电极引脚;
步骤4,制备烧结挥发片和环形扩散障碍层,并将扩散障碍层填充在反应空腔内,并将烧结挥发片填充在扩散障碍层与反应空腔的内壁之间;
步骤5,将第一层流延基片、第二层流延基片、第三层流延基片、第四层流延基片、第五层流延基片以及第六层流延基片由上而下依次进行叠合,再进行温等静压压制,形成坯材,再对坯材进行切割处理,形成单个芯片生坯;
步骤6,进行烧结处理。
2.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述温等静压压制的压力在15Mpa至25Mpa之间,温度在65℃至85℃之间;所述烧结的温度在1450℃至1550℃之间。
3.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述信号外泵电极、信号内泵电极、参比电极的印刷浆料是由铂与氧化锆陶瓷按质量分数比为99:1~90:10配制后的粉料再加粘结剂调和而成,配制的粉料与粘结剂按质量分数比为1:0.4~1:0.5进行配制。
4.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述加热电极的印刷浆料是由铂与粘结剂按质量分数比为1:0.25~1:0.4进行配制并调和而成。
5.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述第一绝缘层和第二绝缘层的印刷浆料是由氧化铝:玻璃料:粘结剂按质量分数比为:(80~99):(1~20):(25~40)进行配制并调和而成。
6.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述保护层的印刷浆料是由氧化铝、造孔剂和粘结剂按质量分数比为(6~9):(1~4):(2.5~4)进行配制而成。
7.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述扩散障碍层的流延浆料是由氧化铝、造孔剂、溶剂和粘结剂按质量分数比为:100:(1~5):(50~60):(30~50)进行配制而成。
8.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述扩散障碍层的印刷浆料是由氧化锆、氧化铝和粘结剂按质量分数比为5:5:(3~4)进行配制而成。
9.如权利要求1所述的片式宽域氧传感器芯片的制作方法,其特征在于,所述烧结挥发片的流延浆料是由有机物粉料、溶剂和粘结剂按质量分数比为:100:(50~60):(30~50)进行配制并调和而成,有机物粉料可以是淀粉、石墨粉或其他有机粉体。
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