[发明专利]一种补血菜的种植方法无效
申请号: | 201410269263.2 | 申请日: | 2014-06-17 |
公开(公告)号: | CN104081965A | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 卢海林 | 申请(专利权)人: | 沛县益农蔬菜专业合作社 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01B79/02;A01C1/00;A01C21/00 |
代理公司: | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人: | 刘艳春 |
地址: | 221600 江苏省徐州市沛县*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 补血 种植 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种种植方法,具体涉及一种补血菜的种植方法。
背景技术
补血菜又名观音菜(The blood dishes),因其叶背紫红,又称红背菜,是菊科三七草属宿根多年生草本植物,生长健壮。
根据对比文件,目前对补血菜栽培的研究甚少,其中提高补血菜种子的发芽率,是提高高产,稳产,简单操作的必选,而只要提高种子本身的发芽率,就可以在大面积范围内实行播种,很大程度上提高产量。
发明内容
针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种养植方法简单,且提高种子发芽率,保证产量高的补血菜的种植方法
本发明的技术解决方案是这样实现的:一种补血菜的种植方法,其特征在于包括以下种植工序:
(1)、播种育苗
(a)、苗床制作:选疏松肥沃,排灌方便的地块,深翻土后做成畦宽1—1.2米,沟宽40—50厘米,沟深约25厘米;畦内每平方米撒施腐熟优质农家肥5—6千克,同时加过磷酸钙60—70克和草木灰100—200克,刨细掺匀,起出盖土后耙平;
(b)、播种:首先将种子在水杨酸性0.07-0.6mmol/L的磁化水内浸泡至少三个小时,再经多菌灵喷施,消毒;在畦内按8—10厘米距离划约2厘米深的浅沟,然后撒播种子,耙平,镇压,浇播种水;
(2)、育苗管理:苗期温度保持在15-20℃;苗床土保持见干见湿,一般在苗床土面偏干时浇一次水;1—2片真叶时进行间苗,留苗距离5—6厘米;当苗有4—5片真叶时,浇施一次稀薄有机液肥及进行秧苗锻炼,有6片真叶左右时进行移栽定植;
(3)、移栽定植:从苗床上带土起苗,每穴栽入3-5株苗,栽植深度为至少5厘米,栽后浇足水分,然后覆细土稍作镇压,浇定苗水;
(4)、科学施肥浇水:定植后15—20天追施一次肥,每亩复合肥15—20公斤,应及时浇水,水必须浇透;雨季要及时清沟排水;
(5)、除草:及时拔除杂草;缓苗后10-15天叶面喷施1—2次浓度为0.1—0.2%的硼砂溶液,每次每亩喷施量为50—75公斤;
(6)、采收与加工:定植后5—7周肉质根粗3.5厘米以上时开始收获。
由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:
本发明的补血菜的种植方法,养植方法简单,种子发芽率高,可以在大面积范围内实行播种,很大程度上提高了产量。
具体实施方式
本发明所述的一种补血菜的种植方法,其特征在于包括以下种植工序:
(1)、播种育苗
(a)、苗床制作:选疏松肥沃,排灌方便的地块,深翻土后做成畦宽1—1.2米,沟宽40—50厘米,沟深约25厘米;畦内每平方米撒施腐熟优质农家肥5—6千克,同时加过磷酸钙60—70克和草木灰100—200克,刨细掺匀,起出盖土后耙平;
(b)、播种:首先将种子在水杨酸性0.35mmol/L的磁化水内浸泡至少三个小时,磁化水侵泡温度控制在28摄氏度左右,利用磁化水催芽的方法显著的提高了种子的发芽势和发芽率,在磁化水中加入水杨酸大大增强不定根的生长,利于大面积的播种成活率;再经多菌灵喷施,消毒;之后在畦内按10厘米距离划约2厘米深的浅沟,然后撒播种子,耙平,镇压,浇播种水;
(2)、育苗管理:苗期温度保持在15-20℃;苗床土保持见干见湿,一般在苗床土面偏干时浇一次水;1—2片真叶时进行间苗,留苗距离5—6厘米;当苗有4—5片真叶时,浇施一次稀薄有机液肥及进行秧苗锻炼,有6片真叶左右时进行移栽定植;
(3)、移栽定植:从苗床上带土起苗,每穴栽入3-5株苗,栽植深度为至少5厘米,栽后浇足水分,然后覆细土稍作镇压,浇定苗水;
(4)、科学施肥浇水:定植后15—20天追施一次肥,每亩复合肥15—20公斤,应及时浇水,水必须浇透;雨季要及时清沟排水;
(5)、除草:及时拔除杂草;缓苗后10-15天叶面喷施1—2次浓度为0.1—0.2%的硼砂溶液,每次每亩喷施量为50—75公斤;
(6)、采收与加工:定植后5—7周肉质根粗3.5厘米以上时开始收获。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。
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