[发明专利]测量方法、载台装置、及曝光装置

权利要求书

1.一种用于以照明光曝光基板的曝光装置，该装置包含:

投影光学系统，用于将该照明光投影到排列在该投影光学系统下方的该基板上；

复数个光栅构件，各自具有反射型光栅部分，其排列成实质上平行于垂直该投影光学系统的光轴的既定面；

基座构件，排列在相对于该光栅部分的该复数个光栅构件的相对侧，并且该光栅构件固定于该基座构件；

支撑构件，配置成支撑该基座构件，使得该复数个光栅构件在平行于该既定面的方向中为可移动的；

载台，用于支撑该基板并且在被固定于该基座构件的该复数个光栅构件之下为可移动的；以及

测量元件，具有设在该载台处的复数个检测构件，复数个检测构件中的各者被配置成从该光栅部分下方发射光束至该光栅部分，以便获取该载台的位置资讯。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，进一步包括

框架构件，配置成支撑该投影光学系统，

其中该支撑构件附着于该框架构件。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中

该支撑构件透过挠曲构件支撑该基底构件。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中

该复数个光栅构件被固定于该基底构件，使得在相对于该光栅部分的该相对侧处的该复数个光栅构件的表面接触该基底构件。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，进一步包括

嘴单元，设在该投影光学系统的较低端部侧处并且具有让该照明光通过的开口，该嘴单元排列成在该投影光学系统和该基板的一部分之间形成具有液体的浸没区域，其中该基板是藉由该载台而在相对于该投影光学系统的位置处支撑，

其中该复数个光栅构件排列在该嘴单元的外侧；以及

其中该曝光装置配置成以该照明光透过该投影光学系统和该浸没区域的液体而曝光该基板。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中

该嘴单元实质上以平行于该既定面的方向定位于形成在该基底构件中的开口内。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中

该复数个光栅构件包围该嘴单元并且被排列，使得该光栅部分在比该嘴单元的较低表面还高处定位。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的曝光装置，其中

该嘴单元在该嘴单元的较低表面处具有回收口，该回收口包围该照明光通过的该开口，以及

其中该嘴单元被排列成供应液体到该浸没区域，并且该回收口被排列成回收来自该浸没区域的液体。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的曝光装置，进一步包括

框架构件，配置成支撑该投影光学系统，以及

另一框架构件，其不同于该框架构件且配置成支撑该嘴单元，

其中该支撑构件附着于该框架构件。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其中

该载台具有设在形成于该载台的较高表面中的凹部内的保持具，以便保持在该凹部中的该基板，以及

其中该复数个检测构件的各者设在该载台处，以便将其置于该较高表面的外侧。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中

该载台具有复数个固定构件，该检测构件被固定于该复数个固定构件的各者，以及该复数个固定构件以相较于该较高表面在更加向外方向中延伸。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其中

该复数个固定构件设在该载台处，使得该复数个检测构件面对该复数个光栅构件。

13.一种用于以照明光透过投影光学系统曝光基板的曝光方法，该方法包含:

在复数个光栅构件之下移动放置该基板的载台，其中该复数个光栅构件各自具有反射型光栅部分，其排列成实质上平行于垂直该投影光学系统的光轴的既定面；

藉由具有设在该载台处的复数个检测构件的测量元件来获取该载台的位置资讯，该复数个检测构件的各者被配置成从该光栅部分下方发射光束至该光栅部分；以及

基于该测量位置资讯来控制该载台的位置，其中该复数个光栅构件被固定于基底构件，其中该基底构件排列在相对于该光栅部分的相对侧处，以及

其中该基底构件藉由支撑构件所支撑，使得该复数个光栅构件在平行于该既定面的方向中为可移动的。