[发明专利]一种铝纳米颗粒尺寸的调控方法及其应用有效
申请号: | 201410271693.8 | 申请日: | 2014-06-18 |
公开(公告)号: | CN104003354A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 祝渊;汤子康;赵呈春;苏宇泉;关钊允 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;B82B1/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 510006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 颗粒 尺寸 调控 方法 及其 应用 | ||
1.一种铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.将经模板法制备好的铝纳米颗粒阵列浸入到磷酸和铬酸的混合酸中,腐蚀0.1~120min;所述混合酸中磷酸的质量分数为3~8%,铬酸的质量分数为1~3%,混合酸的温度为50~100℃;
或将经模板法制备好的铝纳米颗粒阵列浸入到磷酸溶液中,腐蚀0.25~10min;所述磷酸的质量分数为0.01~10%,磷酸的温度为10~80℃;
或将经模板法制备好的铝纳米颗粒阵列浸入到硫酸溶液中,腐蚀0.1~60min;所述硫酸的质量分数为0.01~10%,硫酸的温度为10~80℃;
S2.将铝纳米颗粒阵列取出,去离子水清洗后,置于20~100℃空气中放置0.1~24h,使表面自然生成氧化膜;
S3.循环重复S1和S2,铝纳米颗粒尺寸依次减小,通过调整重复次数即可获得所需尺寸的铝纳米颗粒阵列,进而得到所需尺寸的铝纳米颗粒。
2.根据权利要求1所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,S1所述模板法的步骤为:制备多孔模板后,将多孔模板与平整衬底贴合在一起,在衬底表面的多孔模板上制备铝纳米颗粒阵列。
3.根据权利要求1所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,S1所述铝纳米颗粒阵列浸入到磷酸和铬酸的混合酸中,腐蚀10~30min;所述混合酸中磷酸的质量分数为5~7%,铬酸的质量分数为1~2%,混合酸的温度为50~70℃;
或铝纳米颗粒阵列浸入到磷酸溶液中,腐蚀0.1~2min;所述磷酸的质量分数为2~4%,磷酸的温度为25~35℃;
或铝纳米颗粒阵列浸入到硫酸溶液中,腐蚀5~15min;所述硫酸的质量分数为2~4%,硫酸的温度为25~35℃。
4.根据权利要求1所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,S2所述去离子水清洗后,置于20~85℃空气中放置1~5h。
5.根据权利要求1所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,S2所述去离子水清洗后,还用氮气吹干。
6.根据权利要求2所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,所述衬底是普通玻璃、石英玻璃、单晶硅、蓝宝石或氮化镓。
7.根据权利要求2所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,所述模板是阳极氧化铝模板、聚苯乙烯小球自组装模板或电子束曝光法模板。
8.根据权利要求2所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法,其特征在于,所述制备多孔模板的方法为阳极氧化铝法、聚苯乙烯纳米球刻蚀法、电子束曝光法或激光干涉法;
所述铝纳米颗粒阵列的制备方法为:采用电子束蒸发法或真空热蒸发法在多孔模板上蒸镀一层金属铝,除去模板后制得。
9.权利要求1~8任一所述铝纳米颗粒尺寸的调控方法的应用。
10.利用权利要求1~8任一所述调控方法得到的铝纳米颗粒阵列或铝纳米颗粒。
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