[发明专利]一种改善带状离子束均匀性的装置

权利要求书

1.一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述装置包括：

一单体双发射电子枪，所述单体双发射电子枪设置于一带状离子束的上侧；

一单电子枪，所述单电子枪设置于所述单体双发射电子枪的相向位置并位于所述带状离子束下侧；

其中，所述带状离子束由一离子注入机的离子源产生，通过带状离子束上侧的单体双发射电子枪与下侧的单电子枪共同发射电子束，使电子束中的电子均匀附在所述带状离子束周围。

2.如权利要求1所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单体双发射电子枪包括两个电子束发射装置，两个电子束发射装置位于所述带状离子束的纵向中心线的左右两侧。

3.如权利要求2所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单电子枪位于所述纵向中心线上。

4.如权利要求2所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单体双发射电子枪的两个电子束发射装置位于同一水平面上。

5.如权利要求2所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单体双发射电子枪的两个电子束发射装置中均设置有电子束发射口，且所述单电子枪中也设置有电子束发射口。

6.如权利要求5所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单体双发射电子枪的电子束发射口与所述单电子枪的电子束发射口均朝向所述带状离子束设置。

7.如权利要求5所述的一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述单电子枪的电子束发射口到所述带状离子束的距离和所述单体双发射电子枪的电子束发射口到所述带状离子束的距离相等。