[发明专利]涂布装置和涂布膜的制造方法

说明书

本发明提供涂布装置和涂布膜的制造方法。该涂布装置包括：涂布部，其将含有固化成分的涂布液涂布在相对地移动的片材上，通过使该涂布后的涂布液固化而形成涂布膜；送液部，其用于向该涂布部输送上述涂布液；测定部，其配置于上述送液部与上述涂布部之间，用于对上述涂布液的质量流量进行测定；以及控制部，其存储有上述质量流量的基准值，用于根据该基准值和上述测定部的测定结果来改变由上述送液部输送的上述涂布液的质量流量。

技术领域

本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。

背景技术

以往，使用在片材上涂布涂布液而形成涂布膜的涂布装置，该涂布装置包括：涂布部，其用于将含有固化成分的涂布液涂布在片材上；以及送液部，其用于向该涂布部输送涂布液。在该涂布装置中，当来自涂布部的涂布液的喷射量变动时，获得的涂布膜的厚度发生变动，从而有可能使涂布膜不能发挥期望的性能。

因此，提出一种涂布装置，其构成为通过控制向涂布部输送的涂布液的量而对来自涂布部的涂布液的喷射量进行控制。

例如，提出一种涂布装置，该涂布装置包括：送液部，其用于将涂布液输送至涂布部；测定部，其配置于送液部与涂布部之间，用于测定涂布液的送液量；以及控制部，其根据测定部的测定结果来改变送液部的送液量(参照专利文献1、2)。

专利文献1：日本国特开2007－330935号公报

专利文献2：日本国特开2011－194329号公报

但是，在上述专利文献1、2中，作为涂布液的送液量而测定体积流量，并根据该体积流量的测定结果来调整涂布液的送液量(即体积流量)，但在上述专利文献的涂布装置中，有时不能够充分获得具有期望的厚度的涂布膜。

另一方面，还想到测定被形成于片材上的涂布膜的厚度，并根据该测定结果来改变涂布液的送液量。但是，在这样的调整中，在送液部中调整了的涂布液反映到涂布膜的测定结果的过程需要花费相当的距离和时间，因此，有可能不能将涂布膜的厚度的变动迅速地反映到涂布液的送液量的变更，另外，还会导致涂布液的浪费。

发明内容

本发明是鉴于上述问题点而提出的，其课题在于，提供能够比较迅速且可靠地、并且无浪费地抑制涂布膜的厚度的变动的涂布装置和涂布膜的制造方法。

本发明人对涂布液的送液量与形成了的涂布膜的厚度之间的关系进行了认真研究，结果发现：由于涂布液的体积有可能因涂布装置的周围的环境温度而变动，因此，若将体积流量作为送液量的指标，则有可能不能够充分抑制由上述体积变动引起的、获得的涂布膜的厚度的变动。并且，本发明者们根据该见解进一步进行了认真研究，发现：通过将质量流量作为送液量的指标，能够更加抑制获得的涂布膜的厚度的变动，由此完成了本发明。

即，本发明的涂布装置包括：涂布部，其将含有固化成分的涂布液涂布在相对地移动的片材上，通过使该涂布后的涂布液固化而形成涂布膜；送液部，其用于向该涂布部输送上述涂布液；测定部，其配置于上述送液部与上述涂布部之间，用于对上述涂布液的质量流量进行测定；以及控制部，其存储有上述质量流量的基准值，用于根据该基准值和上述测定部的测定结果来改变由上述送液部输送的上述涂布液的质量流量。

采用该结构，由于能够利用配置于送液部与涂布部之间的测定部来测定涂布液的送液量，因此，与测定涂布膜的厚度的情况相比，能够迅速且无浪费地抑制涂布膜的厚度的变动。

并且，采用质量流量作为涂布液的送液量的指标，并利用测定部测定涂布液的质量流量，然后根据测定部的测定结果和质量流量的基准值来改变涂布液的质量流量，因此，与将体积流量作为指标的情况相比，能够可靠地抑制涂布膜的厚度的变动。

因而，采用上述结构的涂布装置，能够比较迅速且可靠地、并且无浪费地抑制涂布膜的厚度的变动。