[发明专利]一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法

权利要求书

1.一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法，其特征在于所使用的热源为层流等离子体，电场作为辅助。

2.根据权利要求1所述的一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法，其特征在于层流等离子体发生器的功率在10Kw—200Kw范围内可调，使用的气体为Ar、N2、H2、O2或其混合气体。

3.根据权利要求1所述的一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法，其特征在于电场位于等离子喷枪与工件之间，电场可以是直流电场、直流脉冲电场或交流电场等，电场方向可调，电场变化频率可调。

4.根据权利要求1所述的一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法，其特征在于电场的强度与等离子体发生器功率、气流量、喷涂粉体材料等工艺参数相关，且在1KV—100KV范围内可调。