[发明专利]一种版图设计方法和版图设计系统有效

专利信息
申请号: 201410276868.4 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN105224702B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 樊强;李雪 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 高伟;赵礼杰
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 版图 设计 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种版图设计方法,其特征在于,所述方法包括:

步骤S101:提供原始版图文件,对所述原始版图文件进行冗余通孔填充以形成包括冗余通孔的第二版图文件;

步骤S102:将所述第二版图文件与所述原始版图文件合并以形成第三版图文件;

步骤S103:对所述第三版图文件进行DRC验证,其中所述DRC验证直接调用PDK中的DRC编码并根据验证结果输出包含DRC错误的第四版图文件;

步骤S104:将所述第四版图文件中的DRC错误从所述第二版图文件中通过版图操作去除以形成第五版图文件,并将所述第五版图文件与所述原始版图文件合并以形成第六版图文件。

2.如权利要求1所述的版图设计方法,其特征在于,在所述步骤S104之后还包括步骤S105:

对DRC验证的次数与预设的DRC验证次数是否相等进行判断,并分情况进行如下处理:如果次数相等,则将所述第六版图文件作为最终的版图文件输出;如果次数不相等,则重复执行所述步骤S103至所述步骤S105。

3.如权利要求1所述的版图设计方法,其特征在于,在所述步骤S101中,所述冗余通孔填充为:采用矩形通孔或者双正方形通孔代替所述原始版图文件中的正方形的单通孔。

4.如权利要求1所述的版图设计方法,其特征在于,所述原始版图文件、所述第二版图文件、所述第三版图文件、所述第四版图文件、所述第五版图文件和所述第六版图文件为GDS格式或OASIS格式。

5.如权利要求1所述的版图设计方法,其特征在于,在所述步骤S104中,将所述第四版图文件中的DRC错误从所述第二版图文件中通过版图操作去除的方法包括:将所述第二版图文件与包含DRC错误的所述第四版图文件进行逻辑“非”运算。

6.一种版图设计系统,其特征在于,所述系统包括:

冗余通孔填充模块(101),用于对原始版图文件进行冗余通孔填充以形成包括冗余通孔的第二版图文件;

版图合并模块(102),用于将所述第二版图文件与所述原始版图文件合并以形成第三版图文件;

DRC验证模块(103),用于对所述第三版图文件进行DRC验证,其中所述DRC验证直接调用PDK中的DRC编码并根据验证的结果输出包含DRC错误的第四版图文件;

版图操作模块(104),用于将所述第四版图文件中的DRC错误从所述第二版图文件中通过版图操作去除以形成第五版图文件,并将所述第五版图文件与所述原始版图文件合并以形成第六版图文件。

7.如权利要求6所述的版图设计系统,其特征在于,所述系统还包括:

DRC验证次数判断模块(105),用于对DRC验证的次数与预设的DRC验证次数是否相等进行判断,并分情况进行如下处理:如果次数相等,则将所述第六版图文件作为最终的版图文件输出;如果次数不相等,则重复执行DRC验证、版图操作以及对DRC验证的次数与预设的DRC验证次数是否相等进行判断的步骤。

8.如权利要求6所述的版图设计系统,其特征在于,所述冗余通孔填充为:采用矩形通孔或者双正方形通孔代替所述原始版图文件中的正方形的单通孔。

9.如权利要求6所述的版图设计系统,其特征在于,所述原始版图文件、所述第二版图文件、所述第三版图文件、所述第四版图文件、所述第五版图文件和所述第六版图文件为GDS格式或OASIS格式。

10.如权利要求6所述的版图设计系统,其特征在于,在所述版图操作模块(104)中,将所述第四版图文件中的DRC错误从所述第二版图文件中通过版图操作去除的方法包括:将所述第二版图文件与包含DRC错误的所述第四版图文件进行逻辑“非”运算。

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