[发明专利]一种可以均匀加热的反应釜无效

专利信息
申请号: 201410278096.8 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN104028204A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 吕昕炜 申请(专利权)人: 吕昕炜
主分类号: B01J19/28 分类号: B01J19/28
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 210012 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 可以 均匀 加热 反应
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种反应釜,尤其是一种可以均匀加热的反应釜。   

背景技术

 反应釜是综合反应容器,广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品等行

业,用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器。目前的反应釜加热形式有电加热、油加热、气加热、水加热、明火加热等。这些加热方式通常是通过反应釜的釜壁进行热传导的,一方面由于反应釜釜璧的会造成热量损失,另一方面,由于反应釜的加热装置通常固定在某一位置,导致反应釜内物料受热不均等,从而影响产品质量。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种反应釜,不仅可以降低反应釜在对釜内物料加热时的热量损失,同时可以使得反应釜内物料受热更为均匀。

为解决上述技术问题,本发明涉及一种可以均匀加热的反应釜,所述可以均匀加热的反应釜包含有反应釜本体、支架、底座。所述反应釜本体为圆柱状,其包含外壁与内壁。反应釜本体顶端设有进料口、反应釜本体底端设有出料口。反应釜外壁上设置有2台热风机,所述2台热风机出风口分别延伸至反应釜本体的顶端与底端,并延伸至反应釜本体内部。所述反应釜本体内壁设有加热装置。所述反应釜本体顶端设有电热管,所述电热管延伸至反应釜本体内部;所述反应釜支架上设有电机,电机主轴与反应釜本体相连接。所述电机可以驱动反应釜本体绕电机主轴进行摆动。

作为本发明的一种改进,所述反应釜内壁上共设有4个加热装置,所述加热装置包括电源和与电源相连接的电阻。

作为本发明的一种改进,所述反应釜本体的外壁与内壁之间设有保温层。

作为本发明的一种改进,所述电机主轴转动角度范围在-45°至45°之间,所述反应釜本体与底座相距0.5米。

相比于现有技术,本发明具有如下优点:

1)   通过热风机、加热电阻、电热管同时在反应釜内部对反应釜内物料进行加热,避免了热量通过反应釜璧时的热量损失,同时使得反应釜内的加热死角得以减少;

2)   通过电机驱动反应釜在加热过程中摆动,使得反应釜内物料处于运动状态,确保反应釜内物料匀能接触到加热源,从而使得其受热更为均匀;

3)   在反应釜本体外壁与内壁之间设置保温层,可以使得反应釜内热量不易扩散,确保反应釜的加热效果。

附图说明

图1为本发明中可以均匀加热的反应釜示意图。

附图标记列表:

1—反应釜本体、2—反应釜外壁、3—反应釜内壁、4—热风机、5—出风口、6—加热装置、7—电热管、8—电机、9—电机主轴、10—保温层、11—支架、12—底座。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式,进一步阐明本发明,应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向,词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

如图1所述的可以均匀加热的反应釜,包含有反应釜本体1、支架11、底座12,所述反应釜本体为圆柱状,其包含外壁2与内壁3,所述反应釜本体的外壁与内壁之间设有保温层10,其可以使得反应釜内热量不易扩散,确保反应釜的加热效果。反应釜本体1顶端设有进料口、反应釜本体底端设有出料口。

反应釜外壁上设置有2台热风机4,所述2台热风机4的出风口5分别延伸至反应釜本体1的顶端与底端,并延伸至反应釜本体1内部,可以向反应釜内壁输送热风。所述反应釜本体内壁3设有4个加热装置6,分别位于反应釜本体内壁3的四周,所述加热装置6包括电源和与电源相连接的电阻,可以从反应釜四周分别对其中物料进行加热。所述反应釜本体顶端设有电热管7,所述电热管7延伸至反应釜本体内部。通过热风机4、加热电阻6、电热管7同时在反应釜内部对反应釜内物料进行加热,避免了热量通过反应釜璧时的热量损失,同时使得反应釜内的加热死角得以减少。

所述反应釜支架11为两根成90°弯折的钢杆,反应釜支架11固定在底座12上。所述反应釜支架上设有电机8,电机主轴9与反应釜本体1相连接。电机8可以驱动反应釜本体1绕电机主轴9进行摆动。所述电机主轴9转动角度范围在-45°至45°之间,所述反应釜本体1与底座12相距0.5米。通过电机驱动反应釜在加热过程中摆动,使得反应釜内物料处于运动状态,确保反应釜内物料匀能接触到加热源,从而使得其受热更为均匀。

本发明方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段,还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。

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