[发明专利]一种无氧化井式真空炉

说明书

技术领域

本发明涉及工业热处理炉技术领域，尤其是涉及无氧化井式真空炉。

背景技术

针对有色金属等材料的退火热处理，现有技术多采用普通罩式炉或者井式氧化化退火炉，工作效率低，耗能高，工件在高温下发生氧化作用，而表面易于形成氧化皮腐蚀产物。

发明内容

针对以上所述金属材料退火热处理时存在的不足，本发明目的在于提供一种无氧化井式真空炉，用于金属材料真空无氧化退火热处理，并切实解决了高温环境下的真空密封装置的使用寿命问题。

本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：一种无氧化井式真空炉，包括炉体、内胆和盖体，所述炉体包括炉架、炉壳和炉衬，所述炉壳固定在炉架上，所述炉壳内有炉衬围成的炉膛，内胆设在炉膛内，所述盖体包括炉盖和内衬，内衬固定在炉盖上，所述炉体和盖体上安装的丝杆升降机构，用于打开和封闭炉盖和炉体,在炉盖与内胆之间设有密封圈，炉盖上设有抽真空管、充保护气体管和风机，其特征在于：所述的炉盖上还设有热电偶，热电偶穿过炉盖进入炉膛内测量炉内温度，并反馈给使用者。

所述的炉膛四周固定有侧电加热元件，炉膛上部开有散热口，炉膛的底部固定有底电加热元件。

所述内胆的上口，设有环绕内胆一周的水包，所述水包是由钢板或钢管围护成密闭的内腔，并设有进水口和出水口，密封圈设在炉盖与内胆的水包之间，密封内胆的上口。

所述热电偶为铠装热电偶。

本发明，构思新颖，设计合理，无氧化退火处理中，整炉炉温均匀性好，退火工件无氧化皮产生，加热完成后可以快速冷却，大大提高生产效率，使用寿命长。

附图说明

附图为本发明无氧化井式真空炉主视剖视图。

附图中：1-炉架；2-炉壳；3-鼓风机；4-水包；5-炉盖；6-丝杆升降机构；7-密封圈；8-起吊钩；9-热电偶；10-风机；11-抽真空管；12-充保护气体管；13-散热口；14-炉衬；15-内胆；16-侧电加热元件；17-耐火砖；18-底电加热元件。

具体实施方式

参照附图所示，本发明无氧化井式真空炉，包括炉体、内胆15和盖体，所述炉体包括炉架1、炉壳2和炉衬14，所述炉架1采用槽钢及钢板焊接而成，固定定位在地面，在炉架1表面贴焊钢板（厚度≮3毫米）炉壳2。所述炉壳2内采用铆固技术固定有炉衬14，本实施例炉衬14总厚度≮300毫米，采用容重为200～250公斤/立方米的高铝纤维（复合）模块，由炉衬14围护成炉膛,所述炉膛开口朝上，并在炉衬14表面喷有一层高温固化剂，形成一层隔热墙，增大炉衬14衬体面的强度及热辐射性能，并进一步减小衬体蓄热损失，达到快速升温的效果，最大限度提高炉子的热效率。所述炉膛底部固定耐火砖17，耐火砖17上固定有圆桶形不锈钢内胆15,所述内胆15开口朝上。本实施例高强度耐火砖17有足够的强度承受压力，又有很好的耐高温性能。所述盖体包括炉盖5和内衬，所述钢板炉盖5内侧固定有高铝纤维（复合）模块内衬，通过炉体和盖体上安装的丝杆（升降）机构6，升降、启闭盖体，能够将炉盖5固定盖在炉膛和内胆15上,盖紧炉膛开口，结合在炉盖5与内胆15之间设有硅胶密封圈7，密封内胆15开口，确保内胆15抽真空进行无无氧化退火；能够在工件退火完成后开启炉盖5，取出工件。炉盖5上固定的起吊钩8，起辅助升降、启闭炉盖5作用。本实施例或在内胆15上口，设有密接固定环绕内胆15一周的水包4，所述水包4由钢板或钢管围护成密闭的内腔，并设有进水口和出水口，循环冷却水通过进水口和出水口，循环进、出水包4内腔，所述密封圈7设在炉盖5与内胆15的水包4之间，所述水包4能够对密封圈7施以冷却，使高温状态下密封圈7的使用寿命得以延长，确保密封圈7始终保持良好的密封效果。本发明所述盖体固定有抽真空管11和充保护气体管12,通入内胆15，用于对内胆15内腔抽真空和充入保护气体，还固定有热电偶，所述热电偶为铠装热电偶，测量内胆15内温度，并固定有风机10，使内胆15内腔空气流通而保持温度均衡,整炉炉温均匀性控制在温差±8℃以内。为使工件退火完成后，炉温能快速冷却，本发明所述炉体固定有离心鼓风机3，并开有散热口13。所述散热口13在工件退火时采用保温材料封闭，工件退火完成后，开启（通）散热口13，启动鼓风机3，向炉膛中鼓风散热，加速余热从散热口13排出。为考虑炉膛温度的均匀性，本发明的侧电加热元件16和底电加热元件18分别布置在炉膛四周及炉膛底部。加热元件的分布，炉膛的四周采用首钢产的0Cr25AL5电阻带布置，底部有电阻丝布置在炉底板的下部。电阻带安装方式采用专用陶瓷螺钉固定，其结构形式安装方便，维护、更换快捷，十分方便，与炉壳2绝不会形成热短路而引起炉外壳局部过热现象。安装时在炉衬14与电阻带之间隔有陶瓷垫圈，以保证炉衬14不与电阻带直接接触，从而增加电阻带的发热效果。所述陶瓷螺钉和垫圈均采用高铝材料在中温下烧结成型，保证其有足够强度和使用寿命。

除以上所述外，本发明还可以有其他实施方式。但凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均属于本发明要求的保护范围。