[发明专利]一种防止耦合的集成电路在审
申请号: | 201410284515.9 | 申请日: | 2014-06-24 |
公开(公告)号: | CN105321940A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
发明(设计)人: | 高俊杰 | 申请(专利权)人: | 高俊杰 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L23/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 211300 江苏省南京市高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防止 耦合 集成电路 | ||
1.一种防止耦合的集成电路,形成于一半导体晶片中,所述集成电路结构包括:一封环,耦接于一信号接地;多个穿孔,耦接于一相邻上层或相邻下层的每一金属线;多个介电层,分别将各金属层与相邻下层或相邻上层的金属层隔离;以及一封环延伸物,与上述封环耦接且将电路分成若干区间。
2.根据权利要求1所述的集成电路结构,其特征在于,上述电路区中至少某一部分具有操作于一信号频率高于1GHz的元件。
3.根据权利要求1所述的集成电路结构,其特征在于,更包括形成一激光熔丝及一环绕着激光熔丝的保护环,其中上述保护环是经由一外部垫片而耦接至上述信号接地。
4.一种集成电路结构,形成于一半导体晶片中,所述集成电路结构包括:一封环,耦接于一信号接地,包括:多个金属线,其中每一金属线分属个别的一金属层,且环绕上述半导体晶片的一电路区;多个穿孔,耦接于一相邻上层或相邻下层的每一金属线;多个介电层,分别将各金属层与相邻下层或相邻上层的金属层隔离;以及与上述封环相邻的一额外封环,其中上述额外封环是耦接于上述接地信号。
5.根据权利要求4所述的集成电路结构,其特征在于,更包括一凸状垫片,与上述金属线耦接,其中上述凸状垫片是耦接于上述信号接地。
6.根据权利要求4所述的集成电路结构,其特征在于,更包括形成一激光熔丝及一环绕着激光熔丝的保护环,其中上述保护环是经由一外部垫片而耦接至上述信号接地。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的