[发明专利]半导体装置及其制造方法在审
申请号: | 201410287004.2 | 申请日: | 2014-06-24 |
公开(公告)号: | CN104916557A | 公开(公告)日: | 2015-09-16 |
发明(设计)人: | 久里裕二;小谷和也;佐佐木遥;平塚大祐;松村仁嗣;北泽秀明;田多伸光;关谷洋纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/495;H01L23/482 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种半导体装置,具备:
基座部;
基板,设置在所述基座部上;
半导体元件,设置在所述基板上;以及
接合部,设置在所述基座部与所述基板之间、以及所述基板与所述半导体元件之间的至少某一方,所述接合部含有锡、锑以及钴。
2.如权利要求1所述的半导体装置,
所述接合部以大于等于0.05重量%且小于等于0.2重量%的比例含有钴。
3.如权利要求1或2所述的半导体装置,
所述基座部、所述基板以及所述半导体元件中的某一个在与所述接合部相接的部分包含钴。
4.如权利要求1或2所述的半导体装置,
还包括覆盖所述基座部、所述基板以及所述半导体元件的树脂。
5.一种半导体装置的制造方法,
在基座部与设置在所述基座部上的基板之间、以及设置在所述基板上的半导体元件与所述基板之间的至少某一方,配置含有锡、锑以及钴的接合材料;
将所述基座部、所述基板、所述半导体元件以及所述接合材料的温度在至少1分钟内保持得比所述接合材料的融点高。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造