[发明专利]一种触控屏感应器的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及触控屏的生产制造领域，尤其涉及一种触控屏感应器的制作方法。

背景技术

触控屏(touch screen)又称为“触摸屏”、“触控面板”，是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置，当接触了屏幕上的图形或文字时，屏幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动连接装置，以实现触控屏中显示内容的控制。触控屏具有坚固耐用、反应速度快、节省空间、易于交流等优点，具有操作简便性，在一定程度上替代了鼠标或键盘，成为实现人与平板电脑、智能手机等终端人机交互的主要方式。

近年来，随着智能手机、平板电脑的兴起，触控屏市场得到较快的发展。触控屏包括设置在显示屏前面的感应器和与感应器相连的控制器，感应器检测用户触摸位置以产生触摸信息并传送给控制器，控制器将接收到的触摸信息转换成触点坐标，并将其传送给主机的主控芯片，并接收主机的主控芯片发出的命令加以执行。

现有的触控屏感应器的制作方法包括以下步骤：氧化铟锡表面清洗、涂布或贴附光刻胶、前烘、曝光、显影、坚膜、检测、蚀刻、去胶、检测。该方法工艺复杂，具体地，该过程需要通过至少两次涂胶和前烘过程，若只进行一次涂胶，会导致光刻胶较薄，容易出现钻蚀现象；而且涂胶过程容易导致成膜不均匀、影响产生质量；在前烘和坚膜的时间和温度控制不好，容易使其残留物影响触控屏感应器的产品质量；涂胶或贴附的光刻胶的厚度较小，使得曝光和显影时间难以准确控制，容易导致蚀刻过程中器件短路或电极过刻，使电阻增加。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的缺陷，提供一种工艺简单的触控屏感应器的制作方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种触控屏感应器的制作方法，包括以下步骤：

S1：对溅射有氧化铟锡层的玻璃基板或PET板进行清洗并干燥；

S2：在黄光条件下，采用覆膜方式在所述氧化铟锡层上覆上固态光刻胶；

S3：将覆上所述固态光刻胶的所述玻璃基板或PET板放置在掩膜版上，曝光所述固态光刻胶；

S4：使用显影液将横向电极的图案或纵向电极的图案显影，去除所述固态光刻胶中没有发生曝光反应的区域，并清洗；

S5：采用蚀刻液对氧化铟锡层进行蚀刻，去除所述氧化铟锡层中没有覆盖有已曝光的所述固态光刻胶的区域，并清洗；

S6：采用去墨液将所述固态光刻胶中发生曝光反应的区域去除，清洗并干燥，以制得所述横向电极或纵向电极；

S7：在所述玻璃基板或PET板上、所述横向电极或纵向电极边缘制作金属引线，完成触控屏感应器的制作。

优选地，所述步骤S1包括：采用洗涤剂进行清洗，接着以乙醇为溶剂采用超声波清洗2～4min，再以纯水为溶剂超声波清洗2～4min；最后采用风刀吹10～250s或在95～115℃下烘烤15～19min。

优选地，所述步骤S2包括：在黄光条件下，将固态光刻胶放置在氧化铟锡层上，采用覆膜方式，覆膜温度达95～105℃，覆膜压力为2～4kg/cm²、覆膜速度为2.5～3.5m/min将固态光刻胶压在氧化铟锡层上。

优选地，所述步骤S3包括：将覆上所述固态光刻胶的所述玻璃基板或PET板放置在菲林、铬板或光罩上，在真空度≥700mmHg条件下，曝光能量为21级曝光尺中的7～9级的紫外光下曝光70～120s。

优选地，所述步骤S4包括：在温度为28～34℃、压强为1.5-2.0kg/cm²时，将曝光后的玻璃基板或PET板放置在显影液中显影30～50s；其中，显影液为浓度为1～3mol/L的K₂CO₃和/或Na₂CO₃溶液。

优选地，所述步骤S5包括：采用是浓度为16～21mol/L的配比为HCl:HNO₃:H₂O＝15～19:15～19:18～22的蚀刻液对氧化铟锡层进行蚀刻，蚀刻时间为150～200s。

优选地，所述步骤S6包括：所述去墨液包括浓度为1～3mol/L的强碱溶液。

优选地，所述步骤S4～S6中的清洗包括：将玻璃基板或PET板在水压为1.5-2.0kg/cm²的纯水中清洗1～2min；所述步骤S6中干燥包括将玻璃基板或PET板放置在95～115℃下烘烤15～19min，或采用风刀吹10～250s。