[发明专利]一种增加铝背场面积的方法无效

专利信息
申请号: 201410295662.6 申请日: 2014-06-27
公开(公告)号: CN104167467A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 郝彦磊;福克斯·斯蒂芬;蒋方丹;金浩;郭俊华;陈康平 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314416 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 增加 铝背场 面积 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种太阳能电池的制作方法,具体涉及一种增加铝背场面积的方法。

背景技术

传统结构太阳能电池的基本工艺流程包括制绒、扩散、去边结和PSG、PEARC、丝网印刷、烧结。其中铝背场起着十分重要的作用,它可以实现背电极欧姆接触,降低表面复合速率,吸杂,形成P+层,反射未吸收的光等作用。然而常规工艺只能实现铝背场在硅片的表面形成,因此铝背场的面积是受到硅片面积制约的。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种增加铝背场面积的办法,开槽技术使得铝背场深入到硅片内部,增加了铝背场的有效面积,提高了开路电压和短路电流,且提高了电池的光电转换效率。

本发明解决技术问题所采用的技术方案是:一种增加铝背场面积的方法,其特征在于:在PEARC步骤与丝网印刷步骤之间,在硅片背面利用激光技术开设槽体,以增加铝背场面积。

作为一种优选,所述槽体为“n ”形,所述槽体的深度c为50~150um,宽度b为50~150um,所述槽体之间的间隔a为50~150um。

本发明的有益效果是: 通过开槽技术使得铝背场深入到硅片内部,大大提高了铝背场的有效面积,并且减少了由于基区体电阻对电池串联电阻的影响。载流子的有效收集区集中在P-N结附近一个扩散长度范围之内,通过开槽可以使得底电极靠近P-N结,从而增加了载流子的收集几率,提高了短路电流。增加了对光的反射面积,提高了光的利用率。与传统太阳能电池生产线完全兼容,可用于大规模生产。

附图说明

图1为本发明实施例硅片的背面示意图。

下面结合附图对本发明做进一步说明。

具体实施方式

实施例1:一种增加铝背场面积的方法,实施于PEARC和丝网印刷之间,在硅片2背面利用激光技术开设槽体1(如附图1所示),以增加铝背场3的面积,该槽体1为“n”形,所述槽体1的深度c为50um,宽度b为50um, 槽体1之间的间隔a为50um。经过计算得到的BSF面积比常规电池BSF面积提高了约40%。

实施例2:另一种增加铝背场面积的方法,实施于PEARC和丝网印刷之间,所述槽体1的深度为100um,宽度为100um, 槽体1之间的间隔a为100um。经过计算得到的BSF面积比常规电池BSF面积提高了约70%。其它与实施例1相同。

实施例3:又一种增加铝背场面积的方法,实施于PEARC和丝网印刷之间,所述槽体1的深度为150um,宽度为150um, 槽体1之间的间隔a为150um。经过计算得到的BSF面积比常规电池BSF面积提高了约80%。其它与实施例1相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司,未经浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410295662.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top