[发明专利]磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及适合作为磁记录介质用基板玻璃、实质上不含有碱金属氧化物并且同时满足高杨氏模量和高比弹性模量的无碱玻璃。

另外，本发明涉及使用上述无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板。

背景技术

随着磁记录介质的薄板化和记录密度的高密度化的发展，要求进一步减小硬盘驱动器旋转中的翘曲、挠曲。另外，对磁记录介质的实用强度的要求也提高，为了应对该要求，提高基板玻璃的断裂韧性是有用的。

因此，对于磁记录介质用基板玻璃而言，为了减小硬盘驱动器旋转中的翘曲、挠曲而要求高比弹性模量，并且，为了提高断裂韧性而要求高杨氏模量。

另一方面，对于磁记录介质用基板玻璃、特别是在表面上形成金属或氧化物薄膜等的磁记录介质用基板玻璃而言，要求例如专利文献1示出的以下所示的特性。

(1)磁记录介质用玻璃基板的制造工序中，大多使用含有二氧化铈磨粒的浆料进行研磨。并且，为了清洗除去研磨后的浆料而使用pH为2以下的强酸性洗涤液或pH为12以上的强碱性洗涤液，对这些化学品要具有充分的化学耐久性。

(2)为了加快磁记录层形成时的升温和降温速度而提高生产率或者提高耐热冲击性，优选玻璃的线膨胀系数小的玻璃。

(3)近年来，伴随着硬盘驱动器的记录容量的增大，高记录密度化正在快速发展。但是，伴随着高记录密度化，磁性粒子的微细化会损害热稳定性，串扰、再生信号的SN比降低成为问题。因此，作为光与磁的融合技术，热辅助磁记录技术受到关注。该技术是在使对磁记录层照射激光或近场光而局部加热后的部分的矫顽力降低的状态下施加外部磁场来进行记录、并利用GMR元件等读取记录磁化的技术，由于能够在高保持力介质上进行记录，因此，能够在保持热稳定性的同时使磁性粒子微细化。但是，为了将高保持力介质成膜为多层膜，需要将基板充分加热，从而要求耐热性。在垂直磁记录方式中，为了应对高记录密度化的要求，也提出了与以往不同的磁记录层，但这种磁记录层的成膜大多需要使基板达到高温来进行。因此，为了应对磁记录层的成膜温度的高温化而要求提高耐热性。

(4)研磨或清洗后的基板表面要充分平滑。

(5)为了减轻硬盘驱动器旋转时的电动机负荷、降低耗电量，要求磁盘的轻量化，玻璃本身也期望为密度小的玻璃。

(6)为了不发生破裂，强度要高。

另一方面，在制造磁记录介质用基板时，为了将玻璃基板的主表面精加工至平滑，对该主表面进行镜面研磨(参考专利文献2)。上述镜面研磨中，使研磨垫与玻璃基板的主表面接触，向该玻璃基板的主表面供给含有研磨磨粒的酸性(pH1～3)的研磨液，并使该玻璃基板与上述研磨垫相对移动而对该玻璃基板的主表面进行研磨。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-106908号公报

专利文献2：日本特开2007-257810号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明的目的在于提供适合作为磁记录介质用基板玻璃、同时满足高杨氏模量和高比弹性模量、化学耐久性高、密度低且强度高的无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板。

另外，本发明的目的在于提供在实施镜面研磨时玻璃基板主表面的表面粗糙度的劣化得到抑制的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

用于解决问题的手段

本发明提供一种磁记录介质用无碱玻璃，其中，

以基于氧化物的质量％计含有：

SiO₂、Al₂O₃、CaO和MgO的含量满足：

[SiO₂]+0.43×[Al₂O₃]+0.59×[CaO]-74.6≤0、且

[SiO₂]+0.21×[MgO]+1.16×[CaO]-83.0≤0。

另外，本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板，其使用本发明的磁记录介质用无碱玻璃制成。

另外，本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使用研磨垫和含有研磨磨粒的pH小于7的研磨液对玻璃基板的主表面进行镜面研磨的镜面研磨工序，并且使用本发明的磁记录介质用无碱玻璃来制造磁盘用玻璃基板，所述制造方法的特征在于，