[发明专利]一种曲面模型创建方法及装置在审
申请号: | 201410301820.4 | 申请日: | 2014-06-27 |
公开(公告)号: | CN105336004A | 公开(公告)日: | 2016-02-17 |
发明(设计)人: | 王恺 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G06T17/10 | 分类号: | G06T17/10 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 王仲凯 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曲面 模型 创建 方法 装置 | ||
1.一种曲面模型创建方法,其特征在于,包括:
获取已输入的目标物件的截面线;
利用所述已输入的目标物件的截面线所在的平面对三维空间进行区域划分;
根据每个区域的形状及每个区域包含的截面线生成位于每个区域内的几何体,所述几何体的表面插值有每个区域包含的截面线,提取位于每个区域内的几何体的表面以生成位于每个区域内的子曲面,所述子曲面插值有该区域包含的截面线;
拼接所述子曲面得到所述目标物件的曲面模型。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用所述已输入的目标物件的截面线所在的平面对三维空间进行区域划分之后,所述方法还包括确定每个区域的类型,以对同一类型的区域采用同一处理方法进行处理,所述确定每个区域的类型具体为:
若构成某一个区域的所有面中,有两个或两个以上的面包含所述截面线,则确定所述区域为主体区域;
若构成某一个区域的所有面中,只有一个面包含所述截面线,则确定所述区域为边缘区域;
若构成某一个区域的所有面中,没有任何面包含所述截面线,则确定所述区域为空置区域。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对同一类型的区域采用同一处理方法进行处理包括:
对于所述主体区域,选取所述主体区域中任意一个包含截面线的平面,以所述平面内的截面线围成的区域为底面,沿与所述底面垂直的方向平移所述底面生成顶面与所述底面形状相同的几何体,所述几何体的表面插值有所述截面线,所述几何体的高度hp=δ*hij,其中δ∈(0,1),hij为所述截面线的中心与以所述截面线的中心为起点,以垂直于所述底面的方向发出的射线与构成所述主体区域的其他平面相交的点之间的最短距离;
针对所述主体区域包含的其他截面线,按照上述方法生成插值所述其他截面线的几何体;
对超出所述主体区域内的几何体进行处理,以使所有几何体位于所述主体区域内;
求解位于所述主体区域内的所有几何体的并集,提取所述并集的表面作为位于所述主体区域内的子曲面,所述子曲面插值有所述主体区域包含的截面线。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述主体区域至少包括第一截面线与第二截面线,所述生成的位于所述主体区域内的几何体至少包括第一几何体与第二几何体,所述第一几何体的表面插值所述第一截面线,所述第二几何体的表面插值所述第二截面线,所述对超出所述主体区域内的几何体进行处理,以使所有几何体位于所述主体区域内包括:
当所述第一截面线与所述第二截面线不相交,所述第一几何体和/或所述第二几何体超出所述主体区域时,减小所述第一几何体和/或所述第二几何体的δ的取值,以调整所述第一几何体和/或所述第二几何体的高度hp,从而使得所述第一几何体和/或所述第二几何体位于所述主体区域内;和/或
将所述第一几何体和/或所述第二几何体的顶面的轮廓线上的所有点向所述顶面的中心移动,直至所述顶面的轮廓线上的所有点位于所述主体区域内。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述主体区域至少包括第一截面线与第二截面线,所述生成的位于所述主体区域内的几何体至少包括第一几何体与第二几何体,所述第一几何体的表面插值所述第一截面线,第二几何体的表面插值所述第二截面线,当所述第一截面线与所述第二截面线相交时,所生成的所述第一几何体的顶面的轮廓线上与所述第一截面线上预设的点对应的点位于所述主体区域内,所述第一截面线上预设的点为与所述第二截面线所在的平面之间的距离小于第一距离阈值的点。
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