[发明专利]磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板

权利要求书

1.一种磁记录介质用无碱玻璃，其中，

以基于氧化物的质量％计含有：

MgO和CaO的含量满足0.20≤MgO/(MgO+CaO)≤0.41。

2.如权利要求1所述的磁记录介质用无碱玻璃，其中，

以基于氧化物的质量％计含有：

SiO₂、Al₂O₃、MgO和CaO以总量计为96质量％以上，

MgO和CaO的含量满足0.22≤MgO/(MgO+CaO)≤0.39。

3.如权利要求1所述的磁记录介质用无碱玻璃，其中，

以基于氧化物的质量％计含有：

SiO₂、Al₂O₃、MgO和CaO以总量计为96质量％以上，

MgO和CaO的含量满足0.22≤MgO/(MgO+CaO)≤0.39。

4.一种磁记录介质用玻璃基板，其使用权利要求1～3中任一项所述的磁记录介质用无碱玻璃制成。

5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使用研磨垫和含有研磨磨粒的pH小于7的研磨液对玻璃基板的主表面进行镜面研磨的镜面研磨工序，并且使用权利要求1～3中任一项所述的磁记录介质用无碱玻璃来制造磁盘用玻璃基板，所述制造方法的特征在于，

所述镜面研磨工序中，在由下述式(1)导出的玻璃成分的溶出速率f(μg·cm^-2·分钟^-1)满足下述式(2)的条件下实施镜面研磨，

f＝f₀·10^α·pH+β·exp(-γ/T)  (1)

式(1)中，f₀＝7.93×10⁶，关于α、β，在所述无碱玻璃的SiO₂含量w为60质量％以上时，α＝0.0121×w-1.46、β＝-0.0868×w+4.38，在所述无碱玻璃的SiO₂含量w小于60质量％时，α＝0.0562×w-4.07、β＝-0.381×w+21.8，pH为研磨液的pH值，γ＝5.81×10³，

1×10^-3≤f≤1  (2)。