[发明专利]双缝干涉条纹解码光谱共焦位移传感器及其位移测量方法有效

专利信息
申请号: 201410305783.4 申请日: 2014-07-01
公开(公告)号: CN104034268A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 王春慧;田爱玲;王红军;刘丙才;朱学亮 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 干涉 条纹 解码 光谱 位移 传感器 及其 测量方法
【权利要求书】:

1.双缝干涉条纹解码光谱共焦位移传感器,其特征在于:

自上而下依次设置有宽带点光源(1)、无色差分光镜(2)和色散透镜组(3),无色差分光镜(2)一侧依次为共焦针孔(4)、无色差准直透镜(5)、干涉双缝屏(6)、适配透镜(7)、矩形光阑(8)和线阵CCD(9);

共焦针孔(4)、无色差准直透镜(5)、干涉双缝屏(6)和适配透镜(7)共光轴,共焦针孔(4)位于无色差准直透镜(5)的前焦面上;

矩形光阑(8)位置偏离该光轴,开孔方向与干涉条纹方向一致;

线阵CCD(9)紧贴放置于矩形光阑(8)后,仅接受到透过矩形光阑(8)的干涉条纹;线阵CCD(9)感光面尺寸与矩形光阑(8)通光孔径的尺寸相同。

2.根据权利要求1所述的双缝干涉条纹解码光谱共焦位移传感器,其特征在于:

所述宽带点光源(1)工作在可见光范围,具体波段为400nm—760nm。

3.根据权利要求2所述的双缝干涉条纹解码光谱共焦位移传感器,其特征在于:

所述矩形光阑(8)下边界离开光轴的距离小于400nm光源波长对应的干涉条纹的半宽度;矩形光阑(8)上边界离开光轴的距离大于760nm光源波长对应的干涉条纹的半宽度,该距离还小于400nm光源波长对应的一个半条纹宽度。

4.双缝干涉条纹解码光谱共焦位移传感器的位移测量方法,其特征在于:

由以下步骤实现:

步骤一:宽带点光源(1)出射光,透过无色差分光镜(2)后,经色散透镜组(3)会聚,不同波长的光产生光谱色散,在空间形成一系列的聚焦点,实现了位移-波长编码;

步骤二:经被测物体(10)表面反射的某一波长的单色光,反向透过色散透镜组(3),被无色差分光镜(2)反射后,到达共焦针孔(4);由于针孔滤波作用,仅有被测物体(10)表面反射的该波长单色光可以通过共焦针孔,并且形成点光源出射;

步骤三:该点光源经无色差准直透镜(5)出射,整形成单色平面光波;该单色平面光波垂直入射到干涉双缝屏(6),每一个狭缝为一个柱面波光源,干涉双缝屏(6)后形成分波前干涉的干涉场;设置于干涉双缝屏(6)后的适配透镜(7),将干涉条纹放大;固定设置的矩形光阑(8)仅允许包含该波长的单色光+1级干涉暗条纹的光斑可以透过,并被线阵CCD(9)所接收;

步骤四:根据线阵CCD(9)所接受到的光斑信息,判读暗条纹的中心位置O1,且记录线阵CCD(9)结构延长线与光轴的交点为O;根据经典杨氏双缝干涉理论,即可得到被测物体(10)表面该反射波长为:

其中:

λ表示被测物体表面反射光波长,k为线性放大率,d为双缝宽度,D为双缝至线阵CCD接受面之间的距离,β为适配透镜的放大倍率,e为干涉条纹的宽度即2×∣O1- O∣;

当矩形光阑(8)下边界位置与400nm光源波长对应的干涉条纹+1级暗条纹的中心位置重合,且上边界位置与760nm光源波长对应的干涉条纹+1级暗条纹的中心位置重合时,位移测量分辨率Rdistance与测量范围L之间的关系为:

其中:α为线阵CCD的暗条纹中心位置判断细分数,A为线阵CCD的像素数。

5.此时,被测物体在初始位置处,表面反射的λ1的单色光波长为:

物体沿着色散透镜组(3)的光轴移动一定距离S后,其表面反射的λ2的单色光,对应的+1级干涉暗条纹中心位置为O2,解码计算其对应的波长为:

且移动的距离S为:

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