[发明专利]用于光刻的组合物和方法

权利要求书

1.一种涂敷过的基片，该基片包括：

位于基片上的光刻胶组合物层；

位于该光刻胶组合物层上面的有机组合物，所述有机组合物包含(i)第一树脂，(ii)不同于所述第一树脂的第二树脂，所述第一树脂和第二树脂中的至少一种包含一种或多种亲水基团，所述第一树脂和第二树脂各自含有光酸不稳定基团，其中所述第一树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯-共-甲基丙烯酸，所述第二树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯；和(iii)一种或多种生酸剂化合物，其中所述有机组合物不含具有硅原子的树脂。

2.一种处理光刻胶组合物的方法，该方法包括：

(a)在基片上施涂光刻胶组合物；

(b)在所述光刻胶组合物上面施涂有机组合物，该有机组合物包含：(i)第一树脂，(ii)不同于所述第一树脂的第二树脂，所述第一树脂和第二树脂中的至少一种包含一种或多种亲水基团，所述第一树脂和第二树脂各自含有光酸不稳定基团，其中所述第一树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯-共-甲基丙烯酸，所述第二树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯；和(iii)一种或多种生酸剂化合物，其中所述有机组合物不含具有硅原子的树脂；

(c)将所述光刻胶组合物形成的层曝光于辐射，活化光刻胶组合物。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光刻胶是浸渍曝光的，所述基片是微电子晶片基片。

4.如权利要求2-3中任一项所述的方法，其特征在于，将所述光刻胶曝光于波长为193纳米的辐射。

5.一种用来与下面的光刻胶组合物层一起使用的涂层组合物，所述涂层组合物包含：

(a)一种或多种生酸剂化合物；

(b)(i)第一树脂，(ii)不同于所述第一树脂的第二树脂，所述第一树脂和第二树脂中的至少一种包含一种或多种亲水基团，所述第一树脂和第二树脂各自含有光酸不稳定基团；和(iii)一种或多种生酸剂化合物，其中所述第一树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯-共-甲基丙烯酸，所述第二树脂是聚甲基丙烯酸叔丁酯；

其中所述涂层组合物不含具有硅原子的树脂。