[发明专利]高透过减反射防刮伤超硬玻璃及其制备方法

权利要求书

1.高透过减反射防刮伤超硬玻璃，包括玻璃基板，其特征在于：在玻璃基板上设置镀层结构，距离玻璃基板由近及远依次设置NB₂O₅镀层，厚度为21-30nm；SiO₂镀层,厚度为20-30nm；NB₂O₅镀层,厚度为45-65nm；SiO₂镀层,厚度为40-60nm；AL₂O₃镀层,厚度为9-16nm和CNx镀层,厚度为8-20nm。

2.高透过减反射防刮伤超硬玻璃，包括玻璃基板，其特征在于：在玻璃基板上设置镀层结构，距离玻璃基板由近及远依次设置NB₂O₅镀层，厚度为21-30nm；SiO₂镀层,厚度为20-30nm；NB₂O₅镀层,厚度为45-65nm；SiO₂镀层,厚度为40-60nm；SiNx镀层,厚度为8-15nm和CNx镀层,厚度为8-20nm。

3.根据权利要求1或2所述的高透过减反射防刮伤超硬玻璃，其特征在于：所述NB₂O₅镀层以为TiO₂替换。

4.高透过减反射防刮伤超硬玻璃的方法,玻璃基板上镀制镀层复合结构，其特征在：距离玻璃基板由近及远依次镀制NB₂O₅镀层，厚度为21-30nm；SiO₂镀层,厚度为20-30nm；NB₂O₅镀层,厚度为45-65nm；SiO₂镀层,厚度为40-60nm；AL₂O₃镀层,厚度为9-16nm和CNx镀层,厚度为8-20nm。

5.根据权利要求4所述的高透过减反射防刮伤超硬玻璃的方法，其特征在于：将AL₂O₃镀层,厚度为9-16nm用SiNx镀层,厚度为8-15nm替换。

6.根据权利要求4或5所述的高透过减反射防刮伤超硬玻璃的方法，其特征在于：所述镀制选用立式多箱体连续磁控反应溅射镀层工艺，该镀层工艺还包括在每一镀层之间增加的条形阳极层离子源，长度为1600mm，大于溅射靶材的长度，该离子源的基本参数设定为：放电电压200～500V、束流平均能量大约为放电电压的50％、放电电流为≤8A、供气量为180SCCM氩气。

7.根据权利要求6所述的防刮伤超硬玻璃的制备方法，其特征在于：立式多箱体连续磁控反应溅射镀层工艺过程中，在镀制氮化碳镀层环节中用分子泵优化排列和靶位隔离形成“气井”方式阻断氧气与氮气互窜，保证氮化物纯度，获得稳定的氮化碳纳米层。

8.根据权利要求7所述的防刮伤超硬玻璃的制备方法，其特征在于：AL₂O₃镀层使用金属铝靶，Nb₂O₅镀层用金属Nb或用氧化铌靶；SiO₂镀层用SiAl合金靶中频电源加氧反应溅射，工作气体流量采用PEN光强控制系统控制，氩气流量80-130SCCM/氧气45-80SCCM；SiNx层使用SiAl合金靶材用氮气反应溅射,氩气流量80-120SCCM/氮气流量6-30SCCM；CNx镀层使用石墨靶,用直流电源溅射,使用Ar₂气流量80-120SCCM与N₂气流量20-60sccm，直流靶溅射功率1-3kw。