[发明专利]化学镀镍磷合金的方法、镀液及镍磷合金层在审
申请号: | 201410317528.1 | 申请日: | 2014-07-04 |
公开(公告)号: | CN104561951A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 张双庆;胡钢 | 申请(专利权)人: | 广东丹邦科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/18 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 523808 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 镀镍磷 合金 方法 | ||
1.一种化学镀镍磷合金的镀液,用于在柔性印制电路板表面化学镀镍磷合金层,其特征在于,包括以下组分:
次磷酸盐,2~50g/L;
镍盐,1~30g/L;
络合剂,1~100g/L;
可释放甲醛的添加剂,0.001~1g/L。
2.如权利要求1所述的镀液,其特征在于:还包括作为表面活性剂的十二烷基硫酸钠,且浓度范围为1~3g/L。
3.如权利要求1所述的镀液,其特征在于:还包括浓度范围为0.05~5mg/L的镀液稳定剂,用于防止所述次磷酸盐自发分解。
4.如权利要求3所述的镀液,其特征在于:所述镀液稳定剂选自含锌离子、铅离子、锡离子、镉离子或铋离子的无机盐,硫脲,硫代硫酸钠,碘酸盐,以及钼酸盐中的一种或两种以上,且浓度范围为0.1~2mg/L。
5.如权利要求1所述的镀液,其特征在于:所述可释放甲醛的添加剂选自羟甲基甘氨酸钠、咪唑烷基脲、重氮咪唑烷基脲、1,3-二羟甲基-5,5-二甲基乙内酰脲、2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇以及氯化3-氯烯丙基六亚甲基四胺中的一种或两种以上。
6.如权利要求1所述的镀液,其特征在于:所述次磷酸盐选自次磷酸钠、次磷酸钾以及次磷酸铵中的一种,且浓度范围为10~40g/L。
7.如权利要求1所述的镀液,其特征在于:所述镍盐选自硫酸镍、醋酸镍、硝酸镍中的一种,且浓度范围为5~15g/L。
8.如权利要求1所述镀液,其特征在于:所述络合剂选自至少含有一个羧基的有机酸及其钠盐、钾盐、铵盐中的一种或两种以上,且浓度范围为5~50g/L。
9.如权利要求8所述的镀液,其特征在于:所述至少含有一个羧基的有机酸包括乙酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、羟基乙酸、乳酸、酒石酸、苹果酸、2,3-二羟基琥珀酸、甘氨酸、2-胺基丙酸、半胱氨酸以及乙二胺四乙酸。
10.一种化学镀镍磷合金的方法,用以在柔性印制电路板表面化学镀镍磷合金层,其特征在于,包括将柔性印制电路板浸入如权利要求1至11任一项所述的镀液中进行化学镀的步骤。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、酸洗和活化:施镀前将所述柔性印制电路板浸入酸性清洗剂里清洗,然后浸入硫酸溶液中进行微蚀活化;
S2、置换:将活化后的所述柔性印制电路板浸入酸性含钯的溶液中,以在铜线路表面置换出具有催化性的钯的晶种;
S3、施镀:将经步骤S2处理后的所述柔性印制电路板浸入所述的镀液中。
12.如权利要求10所述的方法,其特征在于:所述步骤S3还包括PH值调节,具体为:反应过程中在所述镀液中加入PH值缓冲剂,以保证所述镀液的PH值维持在3~6,所述缓冲剂浓度范围为1~25g/L。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于:所述PH值缓冲剂为乙酸、硼酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氨水或碳酸,且浓度范围为3~18g/L,以在反应过程中保持所述镀液的PH值为4~4.5。
14.如权利要求10所述的方法,其特征在于:所述步骤S3中,所述镀液温度为45~90℃,所述柔性印制电路板浸入所述镀液中1~60分钟。
15.一种镍磷合金层,镀于柔性印制电路板的表面,其特征在于:采用如权利要求1至9任一项所述的镀液进行化学镀所制得。
16.如权利要求15所述的镍磷合金层,其特征在于:镀层厚度为0.5~5μm,其中磷的含量在3~12wt%之间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理