[发明专利]一种可实现完全走离补偿的非线性光学晶体的切割方法有效
| 申请号： | 201410317588.3 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104149212B | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 许祖彦;代世波;彭钦军;宗楠;杨峰;张丰丰;王志敏;张申金 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;H01S3/10;B28D5/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 王文君 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 实现 完全 补偿 非线性 光学 晶体 切割 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可实现完全走离补偿的非线性光学晶体的切割方法，其特征在于具有以下的步骤：
1)按相位匹配方向切割一块尺寸为长(L)×宽(W)×高(H)的晶体，长(L)×高(H)为通光面，宽(W)为通光长度，其对应通光方向，即相位匹配方向；
2)将晶体在长(L)方向上切割成长度相等的2N段，N为正整数。
2.应用权利要求1所述的切割方法制得的2N块非线性光学晶体构成的完全走离补偿装置，其特征在于，所述第奇数块晶体方向不动，第偶数块晶体以为长(L)或宽(W)为轴旋转180度，并将晶体依次放置在光路中，通过机械式固定排列方式，或键合方式，或光胶方式前后叠加而成。
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