[发明专利]触控感应层及触控显示装置的形成方法有效
| 申请号： | 201410323444.9 | 申请日： | 2014-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN104111754A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 简廷宪;钟德镇;戴文君;潘新叶 | 申请（专利权）人： | 昆山龙腾光电有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215301 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感应 显示装置 形成 方法 | ||
1.一种触控感应层的形成方法，用于形成图案化的氧化铟锡薄膜及导电薄膜，其特征在于，所述触控感应层的形成方法包括：
在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层；
在图案化的第一光阻层上镀上导电薄膜；
利用第一道剥离工序形成图案化的导电薄膜；
在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层，且形成图案化的第二光阻层；
在图案化的第二光阻层上镀上氧化铟锡薄膜；及
利用第二道剥离工序形成与图案化的导电薄膜对位的氧化铟锡薄膜。
2.如权利要求1所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，所述玻璃基板为彩色滤光片玻璃基板。
3.如权利要求1所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，所述导电薄膜为钼、铝等不透光的导电材料。
4.如权利要求1所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层的步骤包括：
将第一光阻覆盖于玻璃基板上；及
对覆盖了第一光阻的玻璃基板进行曝光处理后采用显影工序。
5.如权利要求4所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层为正型光阻层。
6.如权利要求5所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，在图案化的导电薄膜上形成图案化的第二光阻层的步骤包括：
在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层；
对覆盖了第二光阻的玻璃基板进行反面曝光处理；及
利用曝光遮挡治具再进行正面曝光处理后采用显影工序。
7.如权利要求6所述的触控感应层的形成方法，其特征在于，所述第二光阻层为负型光阻层。
8.一种触控显示装置的形成方法，其特征在于，所述触控显示装置的形成方法包括形成触控感应层；其中，所述触控感应层的形成方法包括：
在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层；
在图案化的第一光阻层上镀上导电薄膜；
利用第一道剥离工序形成图案化的导电薄膜；
在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层，且形成图案化的第二光阻层；
在图案化的第二光阻层上镀上氧化铟锡薄膜；及
利用第二道剥离工序形成与图案化的导电薄膜对位的氧化铟锡薄膜。
9.如权利要求8所述的触控显示装置的形成方法，其特征在于，在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层的步骤包括：
将第一光阻覆盖于玻璃基板上；及
对覆盖了第一光阻的玻璃基板进行曝光处理后采用显影工序；
其中，所述第一光阻层为正型光阻层。
10.如权利要求9所述的触控显示装置的形成方法，其特征在于，在图案化的导电薄膜形成图案化的第二光阻层的步骤包括：
在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层；及
对覆盖了第二光阻的玻璃基板进行反面曝光处理；及
利用曝光遮挡治具再进行正面曝光处理后采用显影工序。
其中，所述第二光阻层为负型光阻层。
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