[发明专利]一种OLED显示器件及其制备方法、蒸镀用掩模板在审

专利信息
申请号: 201410324701.0 申请日: 2014-07-09
公开(公告)号: CN104112824A 公开(公告)日: 2014-10-22
发明(设计)人: 马利飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;C23C14/04;H01L27/32
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 oled 显示 器件 及其 制备 方法 蒸镀用掩 模板
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,尤其涉及一种OLED显示器件及其制备方法、蒸镀用掩模板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)显示器件是一种有机薄膜电致发光器件,其具有易形成柔性结构、视角宽等优点;因此,利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。

OLED显示器件的全彩显示一般包括R(红)G(绿)B(蓝)子像素独立发光、或白光OLED结合彩色滤光膜等方式。其中,RGB子像素独立发光是目前采用最多的彩色模式,其是利用子像素单元中的有机发光材料独立发光。

目前,如图1所示,OLED显示器件的RGB子像素采用并置像素排列方式,在制备时主要是采用FMM(Fine Metal Mask,高精度金属掩模)技术,即:在蒸镀RGB中一种有机发光材料时,利用掩模板的遮挡区域的屏蔽作用将另外两个像素遮蔽,然后利用高精度对位系统移动掩模板或基板蒸镀另外两种有机发光材料。RGB发光面积的大小取决于掩模板的蒸镀开口的大小,但受制于FMM制作工艺(通常是刻蚀工艺)的物理限制,掩模板的蒸镀开口不能任意小,这就限制了显示器的分辨率。

发明内容

本发明的实施例提供一种OLED显示器件及其制备方法、蒸镀用掩模板,可解决现有技术中同等分辨率情况下,掩模板蒸镀开口的制作难度的问题,并且在蒸镀开口能达到的最小精度情况下,可解决分辨率难以提高的问题。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一方面,提供一种OLED显示器件,包括多个像素单元,每个所述像素单元均包括五个子像素,所述五个子像素中包括至少一个红色子像素、至少一个绿色子像素和至少一个蓝色子像素;

其中,所述五个子像素的其中四个子像素分布在四个顶角且形状尺寸相同,其中一个子像素被所述四个子像素包围,且所述四个子像素与被所述四个子像素包围的所述一个子像素为不同颜色子像素;

位于所述像素单元顶角的任一个子像素与周围位于其他三个所述像素单元顶角的各一个所述子像素构成一个规则图形,在所述规则图形中,所有所述子像素为同种颜色子像素且各占1/4图形;

所述子像素均包括阳极、阴极和有机材料发光层。

另一方面,提供一种OLED显示器件的制备方法,所述OLED显示器件包括多个像素单元,所述方法包括:

在形成有阳极的基板上,采用蒸镀方法在每个所述像素单元的位于四个顶角的四个子像素和被所述四个子像素包围的一个子像素的区域形成有机材料发光层;

在形成所述有机材料发光层的基板上形成阴极;

其中,所述像素单元的位于四个顶角的所述四个子像素形状尺寸相同;

位于所述像素单元顶角的任一个子像素与周围位于其他三个所述像素单元顶角的各一个所述子像素构成一个规则图形,在所述规则图形中,所有所述子像素为同种颜色子像素且各占1/4图形;

在所述像素单元的五个子像素中包括至少一个红色子像素、至少一个绿色子像素和至少一个蓝色子像素,且分布在四个顶角的所述四个子像素与被所述四个子像素包围的一个子像素为不同颜色子像素。

再一方面,提供一种OLED显示器件蒸镀用掩模板,包括第一掩模板本体和设置在所述第一掩模板本体上的第一蒸镀开口,所述第一蒸镀开口为圆形或椭圆形;

其中,所述第一蒸镀开口成行间隔排列;

在任意一行通过所有所述第一蒸镀开口圆心的第一方向上,任意相邻的两个所述第一蒸镀开口的距离等于两个所述第一蒸镀开口在所述第一方向的直径;

在任意一列通过所有所述第一蒸镀开口圆心的第二方向上,任意相邻的两个所述第一蒸镀开口的距离等于两个所述第一蒸镀开口在所述第二方向的直径。

又一方面,提供一种OLED显示器件蒸镀用掩模板,包括第二掩模板本体和设置在所述第二掩模板本体上的第二蒸镀开口,所述掩模板本体上除所述第二蒸镀开口的部分包括多个遮挡区域,每个所述遮挡区域为圆形或椭圆形,且所述第二蒸镀开口为被所述遮挡区域间隔出的部分;

其中,在行或列方向上,任意相邻的两个所述遮挡区域相切;

位于任一行或任一列上的所有所述遮挡区域的圆心在一条直线上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410324701.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top