[发明专利]晶体位置调节装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种晶体位置调节装置，尤其涉及一种可以对晶体位置进行微调的装置。

背景技术

双晶体单色仪是X射线光束线上的关键设备，它通过布拉格衍射实现X射线的单色化，它用晶体作为色散元件，衍射，分离具有能量连续可调的单色光，目前国内可以分出来的单色光能量为72.5keV，国外可以分出的单色光能量为140keV。应用布拉格衍射公式：2dsinθ＝nλ，其中d为晶面间距，θ为布拉格角度，n为衍射级数，λ为分出来的单色光波长。对于给定的晶体来说，一般取n为1，d是固定值，即通过改变布拉格角度可以改变单色光能量。为实现宽能量范围的单色光，只需让可以实现的布拉格角度范围越大即可。为实现这个目的，可以加长第二块晶体的长度，但这样做的缺点是需要生产加工大块晶体，费用高，同时可调的布拉格角度受两块晶体间距限制，调节范围很有限。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种晶体位置调节装置，可以方便快捷的对晶体位置进行微调和扩展。

为实现上述目的，本发明提供了一种晶体位置调节装置，所述晶体位置调节装置包括：

第一晶体晶架，搭设第一晶体；

第二晶体晶架，搭设第二晶体；

第二晶体调节装置，与所述第二晶体晶架相连接，所述第二晶体调节装置和第一晶体晶架与外部转角仪同轴旋转；所述第二晶体调节装置包括：

十字滑台，随所述转角仪同轴旋转；

投角固定支撑架，与所述十字滑台相连接，相对所述十字滑台沿水平方向和竖直方向平动；

投角调节支撑架，所述投角调节支撑架的一端和所述投角固定支撑架的一端通过投角微调电机相连接，通过投角微调电机调节所述投角调节支撑架相对投角固定支撑架的投角；

滚角调节支撑架，与所述第二晶体晶架相固定，所述滚角调节支撑架的一端和所述投角调节支撑架的一端通过滚角微调电机相连接，通过滚角微调电机调节所述滚角调节支撑架相对投角调节支撑架的滚角，使得所述第一晶体和第二晶体平行。

本发明晶体位置调节装置实现了方便快捷的对晶体位置进行微调。

附图说明

图1为本发明晶体位置调节装置的主视图；

图2为本发明晶体位置调节装置的侧视图；

图3为本发明晶体位置调节装置的另一侧视图；

图4A为本发明晶体位置调节装置的晶体光路图之一；

图4B为本发明晶体位置调节装置的晶体光路图之二。

具体实施方式

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

图1和图2为本发明晶体位置调节装置的主视图和侧视图，如图所示，本发明晶体位置调节装置具体包括：第一晶体晶架1、第二晶体晶架2、第二晶体调节装置3。

具体的，第一晶体架1上搭设有第一晶体10，第一晶体10是打磨好的片状晶体，具体可以是Si111。

第二晶体晶架2上搭设有第二晶体20，第一晶体20是打磨好的片状晶体，具体可以是Si111，与第一晶体相同。

第二晶体调节装置3与第二晶体晶架2相连接，第二晶体调节装置3和第一晶体晶架1与外部转角仪9同轴旋转。

第二晶体调节装置3包括：十字滑台30、投角固定支撑架31、投角调节支撑架32和滚角调节支撑架33。

十字滑台30随所述转角仪9同轴旋转；投角固定支撑架31与十字滑台30相固定，相对所述十字滑台沿水平方向和竖直方向平动；投角调节支撑架32，投角调节支撑架32的一端和投角固定支撑架31的一端通过投角微调电机41相连接，通过投角微调电机41调节投角调节支撑架32相对投角固定支撑架31的投角；滚角调节支撑架33与第二晶体晶架2相固定，滚角调节支撑架33的一端和投角调节支撑架32的一端通过滚角微调电机41相连接，通过滚角微调电机41调节滚角调节支撑架33相对投角调节支撑架32的滚角，使得第一晶体10和第二晶体20平行。

进一步的，第二晶体调节装置3是用来调节第二晶体20的高度和角度的，与第二晶体晶架2相连接，第二晶体调节装置3和第一晶体晶架1与外部转角仪9同轴旋转，这样的目的是为了保持第一晶体晶架1上的第一晶体10和第二晶体架2上的第二晶体20的晶面平行。