[发明专利]光刻胶的涂胶工艺

权利要求书

1.一种光刻胶的涂胶工艺，所述光刻胶涂布于一晶圆(101)的表面上，所述晶圆(101)置于一离心机的一真空台盘(102)上，所述晶圆(101)的上方具有一喷嘴组件(103)，所述喷嘴组件(103)包括一溶剂喷嘴(104)和一光刻胶喷嘴(105)，所述涂胶工艺包括步骤：

A.所述溶剂喷嘴(104)移动至所述晶圆(101)的中心位置上方，吐出所述光刻胶的溶剂至所述晶圆(101)上，用于增加后续所述光刻胶与所述晶圆(101)之间的粘附性；

B.所述真空台盘(102)带动所述晶圆(101)作第一次高速旋转，使所述溶剂喷嘴(104)吐出的所述溶剂均匀覆盖在所述晶圆(101)的整个表面上，并且所述光刻胶喷嘴(105)移动至所述晶圆(101)的中心位置上方；

C.所述光刻胶喷嘴(105)吐出所述光刻胶至所述晶圆(101)上；

D.所述真空台盘(102)带动所述晶圆(101)作第二次高速旋转，使所述光刻胶喷嘴(105)吐出的所述光刻胶均匀覆盖在所述晶圆(101)的整个表面上。

2.根据权利要求1所述的光刻胶的涂胶工艺，其特征在于，在步骤A中，所述溶剂的用量为1.95～2.05毫升。

3.根据权利要求2所述的光刻胶的涂胶工艺，其特征在于，在步骤B中，所述真空台盘(102)带动所述晶圆(101)作第一次高速旋转的转速为2500～3500转/分钟。

4.根据权利要求3所述的光刻胶的涂胶工艺，其特征在于，在步骤C中，所述光刻胶的最小用量为0.9毫升。

5.根据权利要求4所述的光刻胶的涂胶工艺，其特征在于，在步骤D中，所述真空台盘(102)带动所述晶圆(101)作第二次高速旋转的转速为3000～5000转/分钟。