[发明专利]一种水性环氧自流平地坪涂料及其制备方法在审
申请号: | 201410329289.1 | 申请日: | 2014-07-11 |
公开(公告)号: | CN105238205A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 吴福娣;陈晓兵;杨松林 | 申请(专利权)人: | 江苏欣安新材料技术有限公司 |
主分类号: | C09D163/00 | 分类号: | C09D163/00;C09D5/08 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 水性 自流 平地 涂料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于涂料技术领域,具体涉及一种水性环氧自流平地坪涂料及其制备方法。
背景技术
现有水性环氧地坪与传统溶剂型和无溶剂型地坪涂料相比具有以下优点:(1)不含有机溶剂或挥发性有机化合物含量较低,无环境污染,满足当前环境保护的要求;(2)良好的透气性,解决了传统溶剂型和无溶剂型地坪涂料易出现的涂膜鼓泡、剥离脱落等问题。但是在一些经常受到各种油类侵蚀渗漏的机床、仪器仪表、机械制造以及汽车修理厂等工业车间地面,油污很难彻底清除。由于水油不相溶,普通的水性环氧地坪涂料对此类地面润湿效果不佳,附着力差,很容易造成剥离脱落。同时这类场所地面机械磨损厉害,对地坪涂层的耐磨性有较高的要求。因此开发一款具有耐油污、耐磨、透气、环保,同时附着力好的多功能水性环氧自流平地坪涂料迫在眉睫。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的缺陷,提供一种水性环氧自流平地坪涂料,本发明是通过以下技术方案予以实现的。
一种水性环氧自流平地坪涂料,该涂料各组成物质的质量份数为环氧树脂40-50%;分散剂2%—4%;防沉浆3-10%;氧化铝5-10%;助剂1%-5%。。
一种水性环氧自流平地坪涂料的制备方法,包括以下步骤:
(1)将质量份数为环氧树脂40-50%;分散剂2%—4%;防沉浆3-10%;氧化铝5-10%;助剂1%-5%混合搅拌,搅拌速度为300转/min,搅拌时间为30分钟,得到均匀透明液;
(2)控制均匀透明液温度≤45℃,调整粘度≧90s,固含量≧70%,即得到水性环氧自流平地坪涂料。
发明中所述氧化铝优选为纳米级氧化铝。
本发明通过添加高沸点溶剂、纳米氧化铝,使其具有优异的耐油污涂装、耐磨性能。可采用喷涂工艺,刷涂,滚涂工艺,该涂料还具有优良的粘合性、耐化学腐蚀性、耐磨性、快干性、防透水性、阻燃性等。可以达到长期的防腐效果。
具体实施方式
以下通过具体实施例对本发明作进一步详细的说明。
实施例一:
首先取树脂30%,氧化铝5%,助剂2%、防沉浆2%,按质量百分比计。
将树脂、氧化铝、防沉浆、助剂投入到分散缸中,开启搅拌器缓慢搅拌,搅拌速度为300转/min,搅拌30分钟后,目测其均匀透明后,控制分散缸温度≤45℃(必要时可采用夹套式装置),后检测粘度≧90s,固含量≧70%,得成品。
使用效果:将上述配方制板分别制作5块试板,其中一块做机械性能测试,其余做化学性能测试,膜厚80微米,漆膜保养7天后,对其进行性能极限测试,结果如下:
表1实施例1所制得涂料的性能数据:
实施例二:
首先取树脂25%,氧化铝3%,助剂4%、防沉浆5%,按质量百分比计。
将树脂、助剂、铝粉、锌粉、投入到分散缸中,开启搅拌器缓慢搅拌,搅拌速度为300转/min,搅拌40分钟后,目测其均匀透明后,控制分散缸温度≤55℃(必要时可采用夹套式装置),后检测粘度≧90s,固含量≧70%,得成品。
使用效果:将上述配方制板分别制作5块试板,其中一块做机械性能测试,其余做化学性能测试,膜厚80微米,漆膜保养7天后,对其进行性能测试,结果如下:
表2实施例2所制得涂料的性能数据
实施例三:
首先取树脂35%,氧化铝6%,助剂1%、防沉浆3%,按质量百分比计。
将树脂、助剂、铝粉、锌粉、投入到分散缸中,开启搅拌器缓慢搅拌,搅拌速度为280转/min,搅拌40分钟后,目测其均匀透明后,控制分散缸温度≤35℃(必要时可采用夹套式装置),后检测粘度≧90s,固含量≧70%,得成品。
使用效果:将上述配方制板分别制作5块试板,其中一块做机械性能测试,其余做化学性能测试,膜厚80微米,漆膜保养7天后,对其进行性能测试,结果如下:
表3实施例3所制得涂料的性能数据
本发明一种多功能水性环氧自流平地坪涂料,不含有机溶剂或挥发性有机化合物含量较低,无环境污染,满足当前环境保护的要求;良好的硬度、耐水以及耐化学腐蚀性能;优异的耐磨及耐油污涂装性能;良好的透气性及湿面涂装性能,解决了传统溶剂型和无溶剂型地坪涂料易出现的涂膜鼓泡、剥离脱落等问题。可广泛应用于各种对环境保护和机械性能要求较高的地面,具有良好的市场前景。
虽然本发明已以较佳实施例公开如上,但实施例并不是用来限定本发明。在不脱离本发明之精神和范围内,所做的任何等效变化或微量调整,其并无特别贡献,因此同样属于本发明之保护范围。
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