[发明专利]一种半导体设备不间断真空系统

权利要求书

1.一种半导体设备不间断真空系统，其特征在于包括：第一计量器、主泵、备用泵和处理装置；其中，处理装置被连接至第一计量器、主泵和备用泵以从第一计量器接收信号并控制主泵和备用泵；主泵用于对半导体设备抽真空和/或保持半导体设备的真空状态；备用泵在启动时用于对半导体设备抽真空和/或保持半导体设备的真空状态；其中，第一计量器监控主泵的运作状态，并将主泵的运作状态实时反馈给计算机系统。

2.根据权利要求1所述的半导体设备不间断真空系统，其特征在于，计算机系统在根据从第一计量器接收到的主泵的运作状态判断主泵工作异常时计算主泵工作异常的持续时间，并且在所述持续时间超过设定响应时间启动备用泵对半导体设备抽真空和/或保持半导体设备的真空状态。

3.根据权利要求2所述的半导体设备不间断真空系统，其特征在于，所述持续时间未超过设定响应时间的情况下，计算机系统不启动备用泵。

4.根据权利要求2所述的半导体设备不间断真空系统，其特征在于，设定响应时间是根据半导体设备的被抽真空的体积设定的。

5.根据权利要求2所述的半导体设备不间断真空系统，其特征在于，设定响应时间介于一分钟至三十分钟的范围内。

6.根据权利要求1或2所述的半导体设备不间断真空系统，其特征在于还包括第二计量器，用于监控备用泵的运作状态，并将备用泵的运作状态实时反馈给计算机系统。