[发明专利]一种峰值掺杂结合对称线性掺杂结构的碳纳米场效应管在审

专利信息
申请号: 201410334950.8 申请日: 2014-07-14
公开(公告)号: CN104103692A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 王伟;高健;张露;岳工舒;张婷;李娜;杨晓 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;B82Y10/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 叶连生
地址: 210023 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 峰值 掺杂 结合 对称 线性 结构 纳米 场效应
【权利要求书】:

1.一种峰值掺杂结合对称线性掺杂结构的碳纳米场效应管,其特征在于,该场效应管包括源极Vs、漏极VD、沟道、栅氧化层(2)和双栅极VG结构,所述沟道由碳纳米管层构成,在所述碳纳米管层上从临近源极一端向临近漏极一端依次为N型重掺杂区(3)、线性掺杂结构(5)、峰值掺杂结构(4)、本征碳纳米管(6)、线性掺杂结构(5)、N型重掺杂区(3);栅氧化层(2)位于碳纳米管层的两侧,在两栅氧化层(2)的外侧设有栅极(1)形成双栅极结构。

2.根据权利要求1所述的一种峰值掺杂结合对称线性掺杂结构的碳纳米场效应管,其特征在于,所述的双栅极结构为关于沟道对称的两个栅极(1),所述的两个栅极(1)为同种电介质材料填充形成。

3.根据权利要求1或2所述的一种峰值掺杂结合对称线性掺杂结构的碳纳米场效应管,其特征在于,所述碳纳米管上的临近源极一端的N型重掺杂区(3)和线性掺杂结构(5)构成源扩展区,长度为LS,临近漏极一端的N型重掺杂区(3)和线性掺杂结构(5)构成漏扩展区,长度为LD,其中LS=LD

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