[发明专利]高精度除硅设备

权利要求书

1.一种高精度除硅设备，其特征在于：包括机架、以及设置在机架内的真空蒸馏罐、导流冷凝机构、冷却罐机构和硅油回收装置，其中：

所述真空蒸馏罐的顶部连接所述导流冷凝机构、并在底部设置有排水阀，所述真空蒸馏罐用于减压蒸馏含硅油的处理水、并将所述硅油蒸馏为硅油蒸汽排入至所述导流冷凝机构；

所述导流冷凝机构包括硅油导流管以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置，所述硅油导流管的进口端和出口端分别与所述真空蒸馏罐和冷却罐机构相通，所述硅油导流管用于冷却所述硅油蒸汽、并将所述硅油蒸汽冷却为高温硅油液体；

所述冷却罐机构包括硅油冷却罐以及设置在硅油冷却罐外侧的第二冷却装置，所述硅油冷却罐用于将所述高温硅油液体冷却为低温硅油液体、并排入至硅油回收装置；

所述硅油回收装置包括与所述冷却罐机构相通的硅油箱，所述硅油箱用于储存被蒸馏出的硅油。

2.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐的内部设置有温度传感器和气压传感器，所述真空蒸馏罐上还设置有加热装置和空压机，所述温度传感器与所述加热装置电连接、并用于控制所述加热装置的启闭，所述气压传感器与所述空压机电连接、并用于控制所述空压机的启闭，所述温度传感器的温度监控范围为95-110℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08～-0.06mPa。

3.根据权利要求2所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述温度传感器的温度监控范围为104±0.1℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08mPa。

4.根据权利要求2所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述加热装置包括设置在真空蒸馏罐罐壁上的热油加热管、通过热油循环管与所述热油加热管相连的热油加热箱、以及设置在所述热油加热箱内的电加热丝，所述热油循环管上设置有热油控制阀和热油泵。

5.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述第一冷却装置包括缠绕在硅油导流管外侧的第一冷凝管、以及与第一冷凝管相通的第一冷却水循环装置，所述第二冷却装置包括缠绕在硅油冷却罐外侧的第二冷凝管、以及与第二冷凝管相通的第二冷却水循环装置。

6.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述硅油箱与所述冷却罐机构之间还设置有溢流罐，所述溢流罐用于储存所述低温硅油液体、并将其静置降温至室温。

7.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐上通过母液循环泵还连通有储液罐，所述母液循环泵用于将所述储液罐中的含硅油的处理水泵入所述真空蒸馏罐中。

8.根据权利要求7所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐上还设置有视镜、上液位控制装置和下液位控制装置，所述视镜为透明视镜并设置在所述真空蒸馏罐的罐壁上，所述上液位控制装置和下液位控制装置与所述母液循环泵相连，所述上液位控制装置和下液位控制装置用于监测所述真空蒸馏罐中含硅油的处理水的液位状况、并通过电路控制所述母液循环泵的启闭。

9.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐内部上方还设置有蒸汽导流板，所述蒸汽导流板与所述硅油蒸汽在真空蒸馏罐内的上升方向相垂直。