[发明专利]一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品及其制备方法

权利要求书

1. 一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品，其特征在于，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、低辐射层、第二保护层、第二电介质层；其中，第一、第二电介质层为TiAl_xMg_yO_z，x=0.01~0.1，y=0~0.05，2.015≤z≤2.2；第一、第二保护层为Ni层或NiCr合金层；低辐射层为Ag层或Au层。

2. 如权利要求1所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品，其特征在于，x=0.01~0.05，y=0.01~0.05，2.025≤z≤2.125。

3. 权利要求1所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品的制备方法，其特征在于，采用磁控溅射法制备，包括以下步骤：

S1、清洗：对待镀膜的玻璃基板进行清洗干燥；

S2、预真空过渡；

S3、镀制各膜层，其中第一、第二电介质层采用TiAl或TiAlMg合金为靶材，在氧气或氧氩混合气氛或氧氮氩混合气氛中溅射，溅射气压为0.1~2.0Pa；第一、第二保护层以Ni或NiCr合金为靶材，在氩气氛围中进行溅射，溅射气压为0.03~2 Pa；低辐射层以Ag或Au为靶材，在氩气氛围中进行溅射，溅射气压范围为0.03~2 Pa。

4. 如权利要求3所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述氧氩混合气氛的混合比为1.5~5：1。

5. 如权利要求3所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述氧氮氩混合气氛的混合比为1.5~5：0.1~0.5：1。

6. 权利要求3所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述TiAl合金靶材中，Ti与Al重量比为1：0.01~0.1。

7. 权利要求3所述的高平整度的低辐射镀膜玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述TiAlMg合金靶材中，Ti、Al与Mg重量比为1：0.01~0.05：0.01~0.05。