[发明专利]一种薄膜太阳能电池AZO薄膜的等离子体织构方法有效

专利信息
申请号: 201410339032.4 申请日: 2014-07-16
公开(公告)号: CN104201235B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 周海平;常小幻;向勇 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236
代理公司: 电子科技大学专利中心51203 代理人: 张杨
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳能电池 azo 等离子体 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体工业领域,尤其是太阳能电池方面,特别涉及一种薄膜太阳能电池AZO薄膜的等离子体织构方法。

背景技术

随着能源紧缺、环境污染问题的加剧,各国都在加紧光伏行业的发展步伐。目前,为了解决太阳能电池成本高、效率低的问题,各种新工艺和新技术被应用在电池的制备上。在太阳能电池提高转化效率的技术中,光学优化是一种重要的优化技术,其目的是增加太阳能电池内部的入射光强或光子通量。增加光子通量意味着太阳能电池可以更加有效的利用入射光子,增加光生电流,实现更加高的转化效率,降低光伏发电的成本。实现光学优化的方式主要有减反膜、聚光系统、陷光结构。其中,陷光结构是通过增加光子进入太阳能电池后的光程长即陷光作用(Light Trapping Effect)来提高太阳能电池的转换效率。

表面织构化(Texturing)是在太阳能电池前表面或背表面制备不规则的凹槽或倒金字塔结构,形成陷光结构,使光线在太阳能电池中产生散射和反射,从而使光线传播方向与表面法线的夹角增大,进入太阳能电池的光线可以经过不同的光程传播,增加了电池对光子的吸收。

掺铝氧化锌(AZO)薄膜作为一种透明导电氧化物薄膜(TCO),不仅具备高可见光透过率和低电阻率的优点,还具有ITO、FTO等其他TCO所不具备的优点:原料丰富易得,铝掺杂容易,环境友好,且在高温氢等离子体环境中化学稳定性高,是薄膜太阳能电池理想的电极材料,并得到广泛应用,对其表面织构化的研究也越来越多。目前,AZO表面织构化的方法主要有两种,一是对沉积的AZO膜进行湿法刻蚀,二是在制备AZO薄膜时,通过控制工艺参数直接在玻璃基板上溅射出绒面的AZO薄膜。湿法刻蚀主要是使用稀释的酸或碱溶液对AZO表面进行化学腐蚀达到织构化效果,酸溶液主要有盐酸、硫酸、氢氟酸等,碱溶液主要有氢氧化钠、氯化铵溶液等。湿法刻蚀具有大面积处理基片、刻蚀速度快等优点,但是,由于刻蚀速度过快,不容易控制刻蚀过程,同时,酸或碱溶液的使用,容易造成环境污染。对于直接制备绒面AZO薄膜的方式,由于溅射沉积时粒子能量有限,其织构化效果不明显。

发明内容

针对上述问题,本发明提供一种薄膜太阳能电池AZO薄膜的等离子体织构方法。其原理是:通过射频源的感应耦合作用将功率加到反应室内,使通入的气体电离产生等离子体,等离子体中含有离子、电子、自由基等活性粒子;这些活性粒子撞击AZO薄膜表面实现物理刻蚀,并且与其表面发生化学反应实现化学刻蚀。

本发明所采用的技术方案是:一种薄膜太阳能电池AZO薄膜的等离子体织构方法,其步骤包括:

步骤一、清洗AZO玻璃基片,通过进样室把清洗干净的AZO玻璃基片送到等离子体刻蚀设备反应室的基片架上;

步骤二、开加热电源,对基片架进行加热;

步骤三、对反应室抽真空,直到反应室的本底真空度为1×10-4-3×10-3Pa;

步骤四、同时通入反应气体氮气和氢气,并且调整反应室工作气压为0.3-15Pa;

步骤五、开启射频电源,预热5分钟,设置功率,调节匹配,直至起辉产生等离子体;

步骤六、继续通入氮气和氢气,并保持加热温度,同时开始计时刻蚀;

步骤七、达到刻蚀时间后,关闭射频电源,关闭加热电源,关闭气体,对反应室抽气,两个小时后,取出AZO玻璃基片,即完成AZO玻璃基片的刻蚀。

所述的AZO玻璃基片AZO薄膜厚度为400nm-2μm。

所述的步骤一AZO玻璃基片的清洗步骤包括:先用去污粉加清水冲洗,直至没有气泡,然后用丙酮清洗,再用95%的乙醇冲洗后,用乙醇溶液再超声清洗20分钟,最后用去离子水冲洗后,用去离子水再超声清洗20分钟,然后用高纯氮气吹干。

所述步骤二基片架加热温度为150-300℃。

所述步骤四通入的氮气流量为5-20sccm,氢气流量为1-10sccm。

所述步骤五的射频电源频率为400KHz-13.56MHz,功率为300-2000W。

所述步骤六的刻蚀时间为1-20分钟。

综上所述本发明具有以下有益效果:

1、本发明包括物理性刻蚀和化学性刻蚀,可以达到湿法刻蚀的效果,同时因为不使用腐蚀性溶液,避免反应溶液处理不当对环境造成的污染。

2、本发明不仅可以对AZO表面产生各向同性刻蚀,同时对AZO织构化表面陷坑深度上有各向异性的刻蚀,提高AZO织构化表面的光陷阱效果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410339032.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top