[发明专利]二维图像检测系统

权利要求书

1.一种二维图像检测系统，具备：产生源，其产生光或者放射线；以及二维阵列检测器，其构成为将检测元件二维阵列状地排列，该检测元件通过将该光或者该放射线转换为电荷信息来检测光或者放射线，该二维图像检测系统对基于由该二维阵列检测器检测到的光或者放射线的二维图像进行检测，其中，

在将最小摄影尺寸设为bμm，将由上述产生源、被检体以及上述二维阵列检测器的距离决定的放大率设为ε，将上述二维阵列检测器的像素间距设为dμm，将上述产生源的焦点尺寸设为的情况下，基于上述焦点尺寸设定上述最小摄影尺寸，并且基于所设定的最小摄影尺寸设定上述放大率，以使bε/d≥5、的关系成立。

2.根据权利要求1所述的二维图像检测系统，其特征在于，

上述二维阵列检测器具有将上述放射线直接转换为上述电荷信息的直接转换膜。

3.根据权利要求1所述的二维图像检测系统，其特征在于，

上述二维阵列检测器具有间接转换膜，该间接转换膜通过将上述放射线暂时转换为光，并将暂时转换得到的该光转换为上述电荷信息，来将上述放射线间接地转换为上述电荷信息。

4.一种二维图像检测系统，具备：产生源，其产生光或者放射线；以及二维阵列检测器，其构成为将检测元件二维阵列状地排列，该检测元件通过将该光或者该放射线转换为电荷信息来检测光或者放射线，该二维图像检测系统对基于由该二维阵列检测器检测到的光或者放射线的二维图像进行检测，其中，

在将最小摄影尺寸设为bμm，将由上述产生源、被检体以及上述二维阵列检测器的距离决定的放大率设为ε，将上述二维阵列检测器的像素间距设为dμm，将上述产生源的焦点尺寸设为的情况下，基于上述焦点尺寸设定上述最小摄影尺寸和上述放大率，以使bε/d≥5、的关系成立。

5.根据权利要求4所述的二维图像检测系统，其特征在于，

上述二维阵列检测器具有将上述放射线直接转换为上述电荷信息的直接转换膜。

6.根据权利要求4所述的二维图像检测系统，其特征在于，

上述二维阵列检测器具有间接转换膜，该间接转换膜通过将上述放射线暂时转换为光，并将暂时转换得到的该光转换为上述电荷信息，来将上述放射线间接地转换为上述电荷信息。