[发明专利]一种食品级焦亚硫酸钾生产方法有效
申请号: | 201410345519.3 | 申请日: | 2014-07-21 |
公开(公告)号: | CN104071809A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 徐德良;孙军;马忠堂;何国勇 | 申请(专利权)人: | 徐德良;丁峰;孙军;马忠堂;何国勇 |
主分类号: | C01D5/14 | 分类号: | C01D5/14 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 255202 山东省淄*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 食品级 硫酸钾 生产 方法 | ||
技术领域:
本发明涉及化工领域,具体涉及一种食品级焦亚硫酸钾新工艺生产方法。
背景技术
食品级焦亚硫酸钾成品为无色结晶或白色结晶性粉末,有二氧化硫臭味,易溶于水,水溶液呈酸性,主要用于食品漂白剂、防腐剂、抗氧剂,葡萄酒、果汁的防腐保鲜剂,啤酒澄清剂,饮用水脱氯剂,新鲜果蔬、肉类、葡萄保鲜剂,是广泛应用的食品添加剂之一。
焦亚硫酸钾的旧湿法生产工艺:将硫酸氢钾配制成45°Bé水溶液,在80℃通以二氧化硫,使溶液浓度渐达41~42°Bé,此时,含K2S2O5量约为60~62%,然后将此溶液,进行冷却,可采用自然冷却和机械冷却,在20℃以下进行结晶,将结晶离心分离并干燥后,即得成品(参见《无机盐工业手册》(第二版)225~226页)。利用旧湿法生产工艺,生产的产品含量在92~95%、重金属0.01~0.005%、砷、铅、硒远远大于食品安全国家标准GB25570要求,而且因生产中过程物料浓度过高,无法过滤,产品的澄清度很差,无法满足使用要求,而得到成品是粉末状态,易结块导致使用困难。
发明内容
为了克服现有技术存在的上述缺点,本发明提供一种食品级焦亚硫酸钾新工艺生产方法,该方法可有效降低焦亚硫酸钾中重金属浓度,而且采用分段冷却技术,可控制晶核的形成速度和晶体成长速度,从而得到大而均匀完整的纯净的焦亚硫酸钾晶体,而且干燥时焦亚硫酸钾产品晶体不相互碰撞摩擦,其晶体完整而且大,质量好。
本发明的一种食品级焦亚硫酸钾新工艺生产方法采用的技术方案是:
一种食品级焦亚硫酸钾新工艺生产方法,采用以下步骤:
步骤(1):用自来水、纯水或焦亚硫酸钾母液,与氢氧化钾或碳酸钾配料形成溶液,溶液中含K+100~400g/L,然后加入除杂剂A、助剂B,除去重金属及其他有害杂质;
步骤(2):将上述除杂后得到的溶液,经孔径为0.1~10um的微孔过滤装置进行过滤,得到澄清溶液;
步骤(3):用上述澄清溶液,其中通入气体或液体SO2,至pH值为2.5-5.0,反应生成亚硫酸氢钾溶液;
步骤(4):用上述亚硫酸氢钾溶液,冷却、搅拌,控制晶核的形成速度和晶体成长速度,使溶液中的亚硫酸氢钾含量达到过饱和浓度时,析出焦亚硫酸钾结晶;将析出的焦亚硫酸钾结晶浆液,经固液分离,得到焦亚硫酸钾晶体湿料和母液,其中所述母液可用于再次与步骤(1)中氢氧化钾或碳酸钾配料形成溶液;
步骤(5):用上述步骤(4)中焦亚硫酸钾晶体湿料,经微波干燥技术,通过90℃~160℃微波干燥,得到食品级焦亚硫酸钾产品。
进一步地,步骤(1)中,除杂剂A采用活性炭,助剂B采用改性硅藻土,其中活性炭与改性硅藻土的重量比范围为2∶1-1∶4。更有选地活性炭与改性硅藻土的重量比为1∶2。所述改性硅藻土通过下述步骤制得:按照所述改性后硅藻土含碳酸钙20wt%的比例将硅藻土加入到Na2CO3水溶液中,在搅拌下加入饱和CaCl2水溶液,过滤,在400-500℃温度下煅烧,即得到所述改性硅藻土。
进一步地,步骤(1)中,在除去重金属及其他有害杂质的过程中,采用60-80℃的范围内搅拌10-30分钟。
进一步地,步骤(4)中,利用分段冷却到15℃~30℃,搅拌速度30~60转/分,使溶液中的亚硫酸氢钾含量达到过饱和浓度时,析出焦亚硫酸钾结晶。
进一步地,步骤(3)反应温度42℃~80℃。
本发明带来的有益效果是:
1.本发明的食品级焦亚硫酸钾新工艺生产方法采用加入除杂剂A、助剂B,可使焦亚硫酸钾产品中的重金属降低到3(mg/kg)以下、砷降低到0.5(mg/kg)以下、铅降低到1(mg/kg)以下、硒降低到0.5(mg/kg)以下;
2.该生产方法采用孔径为0.1~10um的微孔过滤装置,过滤其上述反应液,得到非常澄清的溶液,所得到的澄清度远远低于标准比浊溶液;
3.该生产方法采用分段冷却到15℃~30℃,搅拌速度30~60转/分,可控制晶核的形成速度和晶体成长速度,从而得到大而均匀完整的纯净的焦亚硫酸钾晶体;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐德良;丁峰;孙军;马忠堂;何国勇,未经徐德良;丁峰;孙军;马忠堂;何国勇许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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