[发明专利]磁共振成像装置、图像处理装置以及图像处理方法有效

专利信息
申请号: 201410347887.1 申请日: 2014-07-21
公开(公告)号: CN104323775B 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 横泽俊;越智久晃;尾藤良孝 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G06T11/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 曾贤伟,曹鑫
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁共振 成像 装置 图像 处理 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种磁共振成像装置,其特征在于,具备:

拍摄部,其按照预定的脉冲序列进行测量,重构图像;以及

图像处理部,其对所述重构的图像实施运算处理,得到参数图像,

所述脉冲序列是施加弥散梯度磁场脉冲的弥散加权拍摄序列,所述弥散梯度磁场脉冲作为倾斜磁场对核磁共振信号附加伴随弥散的信号变化,

所述拍摄部使所述弥散梯度磁场脉冲的施加方向以及b值变化来执行所述脉冲序列,取得多个所述图像,

所述图像处理部具备:

关心区域设定部,其在所述图像上设定关心区域;

参数推定部,其使用使所述弥散梯度磁场脉冲的施加方向相同,使b值变化来执行所述脉冲序列而得到的多个所述图像的所述关心区域的像素的像素值,针对每个像素推定与弥散相关的参数即弥散参数;

判别部,其判别推定的所述弥散参数是否在预先决定的范围内;

像素值校正部,其对所述判别结果为在所述范围外的所述像素的像素值进行校正;以及

图像生成部,其使用每个像素的所述弥散参数生成所述参数图像,

所述参数推定部通过没有制约条件的最小二乘拟合推定所述弥散参数,并且针对所述判别结果为在所述范围外的所述像素,使用所述校正后的像素值重新推定所述弥散参数,

所述图像生成部,针对校正了像素值的所述像素,使用重新推定的所述弥散参数。

2.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述最小二乘拟合的模型函数是非线性函数。

3.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述最小二乘拟合的模型函数是一次函数。

4.根据要求3所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述像素值校正部通过去除所述弥散参数在所述范围外的像素来进行所述校正。

5.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

还具备对重新推定的所述弥散参数进行校正的参数校正部,

所述参数推定部通过没有制约条件的最小二乘拟合从所述校正后的像素值重新推定所述弥散参数,

所述判别部判别重新推定的所述弥散参数是否在所述范围内,

当所述判别结果为在所述范围外时,所述参数校正部对重新推定的所述弥散参数进行校正。

6.根据要求5所述的磁共振成像装置,其特征在于,

通过所述参数校正部进行的校正,将重新推定的所述弥散参数置换成所述范围内最接近的值。

7.根据要求5所述的磁共振成像装置,其特征在于,

通过所述参数校正部进行的校正,以预先决定的校正值对重新推定的所述弥散参数进行校正,

以针对一个像素计算出的所有弥散参数收敛在所述范围内的方式决定所述校正值。

8.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

还具备可靠度运算部,其计算出推定的所述弥散参数中的、被判别为所述范围内的参数的个数,将从计算结果得到的信息作为可靠度显示提示给用户。

9.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述弥散参数是弥散系数以及峰度系数,

所述参数图像将平均弥散、平均峰度、轴向的峰度以及周向的峰度中的某一个作为像素值的图像。

10.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述像素值校正部通过平滑化滤波器进行所述校正。

11.根据要求1所述的磁共振成像装置,其特征在于,

所述参数推定部当重新推定时,将已推定的该像素的所述弥散参数作为初始值,通过有制约条件的最小二乘拟合重新推定所述弥散参数。

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