[发明专利]光学元件及其制造方法无效
申请号: | 201410349861.0 | 申请日: | 2010-09-02 |
公开(公告)号: | CN104076412A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 高桥秀俊;饭田文彦;木曾弘之;伊藤优;田泽洋志;西村良 | 申请(专利权)人: | 迪睿合电子材料有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
具有表面的基体;以及
以小于等于可见光的波长的细微节距在所述基体的表面配置多个且由凸部或凹部构成的多个构造体,
形成所述构造体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa,
所述构造体的高宽比大于等于0.6小于等于0.94,
所述构造体被配置成在所述基体的表面构成多列轨迹,且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案、准四边形格子图案中的任意一种,
这里,设同一轨迹内的构造体的配置节距为P1,邻接的两个轨道间的构造体的配置节距为P2时,当为四边形格子图案或准四边形格子图案的情况下满足1.4<P1/P2≤1.5,当为六边形格子图案或准六边形格子图案的情况下满足1.00<P1/P2≤1.1。
2.根据权利要求1所述的光学元件,还包括形成在所述构造体上的表面处理层,
其中,所述表面处理层包含含有氟和硅中的至少一种的化合物。
3.根据权利要求2所述的光学元件,
其中,形成了所述表面处理层的所述基体的表面上的油酸的接触角大于等于30度。
4.根据权利要求3所述的光学元件,
其中,形成了所述表面处理层的所述基体的表面上的油酸的接触角大于等于50度。
5.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,所述构造体为具有沿所述轨迹的延伸方向的长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
6.根据权利要求5所述的光学元件,
其中,所述轨迹是直线状或圆弧形。
7.根据权利要求5所述的光学元件,
其中,所述轨迹是蛇行轨迹。
8.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,相同轨迹内的所述构造体的配置节距P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置节距P2。
9.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
以小于等于可见光的波长的细微节距配置多个且由凸部构成的多个构造体,
其中,相邻的所述构造体的下部彼此接合,
形成所述构造体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa,
所述构造体的高宽比大于等于0.6小于等于0.94,
所述构造体被配置成在所述基体的表面构成多列轨迹,且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案、准四边形格子图案中的任意一种,
这里,设同一轨迹内的构造体的配置节距为P1,邻接的两个轨道间的构造体的配置节距为P2时,当为四边形格子图案或准四边形格子图案的情况下满足1.4<P1/P2≤1.5,当为六边形格子图案或准六边形格子图案的情况下满足1.00<P1/P2≤1.1。
10.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
具有表面的基体;以及
以小于等于可见光的波长的细微节距在所述基体的表面配置多个且由凸部或凹部构成的多个构造体,
其中,形成所述构造体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa,
所述构造体的高宽比大于等于0.6小于等于0.94,
所述构造体被配置成在所述基体的表面构成多列轨迹,且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案、准四边形格子图案中的任意一种,
这里,设同一轨迹内的构造体的配置节距为P1,邻接的两个轨道间的构造体的配置节距为P2时,当为四边形格子图案或准四边形格子图案的情况下满足1.4<P1/P2≤1.5,当为六边形格子图案或准六边形格子图案的情况下满足1.00<P1/P2≤1.1。
11.根据权利要求10所述的光学元件,
其中,形成所述基体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于3000MPa。
12.根据权利要求11所述的光学元件,
其中,所述基体的厚度大于等于60μm。
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