[发明专利]一种二极管芯片酸洗工艺及设备在审
| 申请号： | 201410355331.7 | 申请日： | 2014-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN104475390A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 蔡彤;张练佳;贲海蛟;梅余锋 | 申请（专利权）人： | 如皋市易达电子有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 芯片 酸洗 工艺 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种二极管芯片酸洗工艺，其特征在于：所述工艺依次为混合酸清洗、酸与双氧水清洗、氨水与双氧水清洗及水超声清洗，所述氨水与双氧水的混合清洗液为氨水、双氧水与纯水，所述氨水、双氧水与纯水的体积比为2:1:3～6。
2.根据权利要求1所述的一种二极管芯片的酸洗工艺，其特征在于：所述氨水、双氧水与纯水的体积比为2:1:5。
3.根据权利要求1所述的一种二极管芯片的酸洗工艺，其特征在于：所述氨水、双氧水与纯水的配置为：先加入纯水，再加入双氧水，最后加入氨水。
4.根据权利要求1所述的一种二极管芯片的酸洗工艺，其特征在于：所述氨水的浓度为17%-20%，所述双氧水浓度为30%-35%。
5.一种用于实现权利要求1所述的二极管芯片酸洗工艺的设备，其特征在于：包括在酸洗机上依次设置的混合酸清洗段、酸与双氧水清洗清洗段、氨水与双氧水清洗清洗段及水超声清洗段；所述水超声清洗段主要由清洗池、设置在清洗池内的轨道及超声发生器组成，所述轨道由左至右分别为弧形过渡段A、水平段及弧形过渡段B，所述水平段设置在清洗池的底部，且与清洗池底面平行。
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