[发明专利]图像拾取元件、其制造设备及制造方法以及成像设备

权利要求书

1.一种图像拾取元件，包括：

聚光透镜，由包含微金属粒子的树脂制造；

光电转换元件，形成在硅基板中且每一个构造为对入射光进行光电转换，该入射光从外面通过该聚光透镜中对应的一个进入；

光学滤光片，该光学滤光片中的每一个形成在该聚光透镜中对应的一个和该硅基板之间且每一个构造为限制要通过其透射的入射光的波长带；

平坦化膜，形成在该聚光透镜和该硅基板之间；

保护膜，由硅化合物制造，该保护膜形成在该聚光透镜和该光学滤光片之间；

遮光膜沿着该平坦化膜和该硅基板之间的像素边缘部分形成，并且构造为抑制该入射光进入相邻像素。

2.根据权利要求1所述的图像拾取元件，其中，该保护膜至少在该聚光透镜侧具有非平面表面。

3.根据权利要求1所述的图像拾取元件，其中，该硅化合物包括二氧化硅、氮氧化硅和氮化硅中的任何一个。

4.根据权利要求3所述的图像拾取元件，其中，该保护膜具有20nm或更大的膜厚度。

5.根据权利要求1所述的图像拾取元件，其中，该光学滤光片至少包括包含二氧六环颜料的彩色滤光片。

6.根据权利要求5所述的图像拾取元件，其中，包含该二氧六环颜料的该彩色滤光片包括蓝色滤光片。

7.根据权利要求1所述的图像拾取元件，其中，

该保护膜包括形成在该光学滤光片和该平坦化膜之间的另一个保护膜。

8.根据权利要求7所述的图像拾取元件，其中，该保护膜包括形成在该平坦化膜与该遮光膜和该硅基板的叠层之间的再一个保护膜。

9.根据权利要求1所述的图像拾取元件，其中，

该保护膜包括形成在该平坦化膜和该硅基板之间的另一个保护膜。

10.根据权利要求9所述的图像拾取元件，其中，

该平坦化膜和该硅基板之间形成的该另一个保护膜形成在该平坦化膜与该遮光膜和该硅基板的叠层之间。

11.一种图像拾取元件，包括：

聚光透镜，由包含微金属粒子的树脂制造；

光电转换元件，形成在硅基板中且每一个构造为对入射光进行光电转换，该入射光从外面通过该聚光透镜中对应的一个进入；

光学滤光片，该光学滤光片中的每一个形成在该聚光透镜中对应的一个和该硅基板之间，并且每一个构造为限制要通过其透射的入射光的波长带；

平坦化膜，形成在该聚光透镜和该硅基板之间；以及

保护膜，由硅化合物制造，该保护膜形成在该聚光透镜和该光学滤光片之间，其中，

该保护膜形成为延伸在该光学滤光片之一和该聚光透镜中对应的一个之间、在该光学滤光片之一和该光学滤光片中的另一个之间、以及其它光学滤光片和该平坦化膜之间。

12.根据权利要求11所述的图像拾取元件，其中，该保护膜包括形成在该平坦化膜和该硅基板之间的另一个保护膜。

13.一种成像设备，包括：

图像拾取元件，包括：

聚光透镜，由包含微金属粒子的树脂制造，

光电转换元件，形成在硅基板中且每一个构造为对从外面通过该聚光透镜中对应的一个进入的入射光进行光电转换；光学滤光片，该光学滤光片中的每一个形成在该聚光透镜中对应的一个和该硅基板之间且每一个构造为限制要通过其透射的入射光的波长带；

平坦化膜，形成在该聚光透镜和该硅基板之间；

保护膜，由硅化合物制造，该保护膜形成在该聚光透镜和该光学滤光片之间；

遮光膜沿着该平坦化膜和该硅基板之间的像素边缘部分形成，并且构造为抑制该入射光进入相邻像素；以及

图像处理单元，构造为对通过该图像拾取元件捕获的图像数据项执行图像处理。