[发明专利]一种赖氨酸单甲基化衍生化修饰的抗体及其制备方法有效
申请号: | 201410359860.4 | 申请日: | 2014-07-25 |
公开(公告)号: | CN105273060B | 公开(公告)日: | 2022-07-19 |
发明(设计)人: | 程仲毅 | 申请(专利权)人: | 杭州景杰生物科技股份有限公司 |
主分类号: | C07K7/08 | 分类号: | C07K7/08;C07K19/00;C07K16/00;C07C231/12;C07C233/47;C07K14/795;C07K14/805;C07K14/765;C07K14/77 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 向庆宁 |
地址: | 310000 浙江省杭州市钱塘新区杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 赖氨酸 甲基化 衍生 修饰 抗体 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及人工合成的修饰性单甲基化赖氨酸,以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽。本发明还涉及用该修饰性单甲基化赖氨酸,以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽作为抗原产生一种全新的抗体,该抗体可用于识别与富集赖氨酸单甲基化多肽发生体外衍生化后的修饰性多肽。利用该抗体可以检测多肽序列上的氨基酸是否存在单甲基化修饰,本发明还涉及所述抗体的制备方法。
技术领域
本领域涉及抗原设计、抗原制备以及利用抗原产生抗体的领域,具体而言,本发明涉及人工合成的一种新型的修饰性单甲基化赖氨酸以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽,以及利用用该修饰性单甲基化赖氨酸,以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽作为抗原产生一种全新的抗体,该抗体可用于识别与富集赖氨酸单甲基化多肽发生体外衍生化后的修饰性多肽,本发明还涉及所述抗体的制备方法。
背景技术
蛋白或多肽的修饰是生物体内自然存在的一种现象,主要是构成多肽或蛋白的氨基酸的残基被一些基团修饰,然后调控生物体内一系列生命活动。通常修饰可以是甲基化、乙酰化、磷酸化修饰等。作为重要的赖氨酸甲基化修饰,修饰的类型分为单甲基化,二甲基化或三甲基化修饰(Cheng X,Zhang X.Mutat Res(2007)).。如何有效的检测体内是否存在甲基化修饰,特别是单甲基化修饰,可以为有效检测一些重要的疾病提供一种新的方法。因为,一些自然发生的甲基化修饰,例如单甲基化修饰异常,会导致一些严重疾病的产生,例如癌症等。(Yutaka Kondo等人,Mol Cell Biol.23(1):206–215(2003),Berdasco M等人,Proc Natl Acad Sci,106:21830-21835(2009))。
赖氨酸甲基化修饰是蛋白质修饰的一种常见方式。通常情况下,蛋白质修饰的检测需要有特异性识别该修饰的抗体,如蛋白质赖氨酸乙酰化修饰可由赖氨酸乙酰化泛抗体识别(Kouzarides,T.Cell,128,693–705(2007),Berger,S.L.Nature,447,407–412(2007)。赖氨酸甲基化修饰按甲基基团在赖氨酸上的结合形式包括单甲基化、二甲基化与三甲基化三种形式。相应地,高灵敏度、高特异性赖氨酸单甲基化、二甲基化与三甲基化抗体的开发是检测蛋白质赖氨酸甲基化修饰的前提。(Barski,A.等人,Cell129,823–837(2007).Rea,S.等人,Nature406,593–599(2000))。目前,虽然已有成功开发的赖氨酸二甲基化与三甲基化抗体用于赖氨酸二甲基化或三甲基化修饰的检测,然而并没有成功开发的赖氨酸单甲基化修饰的抗体用于赖氨酸单甲基化修饰的检测(Ziqian Liang等人,Proteome Science,第6卷,(1)6:2(2008))。由于赖氨酸单甲基化修饰的基团很小,仅有15Da的分子量,极难产生高的免疫反应,此外单甲基基团的有机属性(organic)进一步削弱赖氨酸残基的免疫原性。这些内在的属性导致直接以赖氨酸单甲基化基团作为免疫原或赖氨酸单甲基化修饰多肽作为免疫原的抗体开发存在巨大的困难。
因此,有必要开发一种全新的抗体用于检测赖氨酸单甲基化修饰。
发明内容
本发明涉及人工合成的修饰性单甲基化赖氨酸,以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽,利用修饰性单甲基化赖氨酸,以及修饰性单甲基化赖氨酸衍生化多肽作为抗原产生的抗体可用于识别与富集赖氨酸单甲基化多肽发生体外衍生化后的修饰性多肽,从而起到检测赖氨酸单甲基化修饰多肽与修饰底物的作用。
一方面,本发明提供一种修饰性单甲基化赖氨酸,所述修饰性单甲基化赖氨酸具有如下结构式:
在一些优选的方式中,其中,R为修饰基团,1)R为其中,R1为烷基(修饰基团碳原子数小于6个)或者芳香基(修饰基团碳原子数小于8个);或者,2)R为磺酰基其中R2为烷基(修饰基团碳原子数小于6个)或者芳香基(修饰基团碳原子数小于8个)。优先地,R为乙酰基丙酰基丁酰基更优先地,R为丙酰基
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