[发明专利]体全息存储演示装置及高厚度全息光盘组成和制备方法

权利要求书

1.一种体全息存储演示装置，其特征在于：其包括半导体激光器(1)、第一空间滤波器(4)、偏振分光棱镜(5)、半波片(6)、第二空间滤波器(7)、第一快门(9)、第二快门(8)、第一全反镜(11)、第二全反镜(10)、透射式空间光调制器(12)、凸透镜(13)、电控旋转台(15)和计算机(18)；其中半导体激光器(1)、第一空间滤波器(4)、偏振分光棱镜(5)、第二快门(8)、第二空间滤波器(7)和第二全反镜(10)从左至右相隔距离设置成一排，并且半导体激光器(1)的发射口面对第一空间滤波器(4)；第一空间滤波器(4)的前后侧各设有一个带有小孔的孔板(2)；半波片(6)、第一快门(9)和第一全反镜(11)从后至前相隔距离设置在偏振分光棱镜(5)前方；透射式空间光调制器(12)、凸透镜(13)和电控旋转台(15)从后至前相隔距离设置在第二全反镜(10)前方，电控旋转台(15)的轴心处用于放置高厚度全息光盘(16)，同时第一全反镜(11)和电控旋转台(15)的轴心位于同一条横线上；计算机(18)与第一快门(9)和第二快门(8)电连接。

2.根据权利要求1所述的体全息存储演示装置，其特征在于：所述的体全息存储演示装置还包括一个CCD或光电探测器(17)，其设置在电控旋转台(15)前方，并且与计算机(18)、第一快门(9)和第二快门(8)电连接。

3.根据权利要求1所述的体全息存储演示装置，其特征在于：所述的半导体激光器(1)为532纳米波长的二极管泵浦的半导体激光器。

4.根据权利要求1所述的体全息存储演示装置，其特征在于：所述的凸透镜(13)的焦平面与高厚度全息光盘(16)中心之间的距离为1毫米。

5.一种利用权利要求1进行存储和演示的高厚度全息光盘，其特征在于：所述的高厚度全息光盘(16)由以重量份计的下列组分组成：

6.根据权利要求5所述的高厚度全息光盘，其特征在于：所述的SiO₂纳米粒子的平均直径为10nm。

7.一种如权利要求5所述的高厚度全息光盘的制备方法，其特征在于：所述的制备方法是：首先将按照上述重量称量的作为光敏剂的菲醌、作为热引发剂的偶氮二异丁氰和作为热致聚合单体的甲基丙烯酸甲酯共混，然后在50℃下通过超声波振荡使其混合均匀并充分互溶，之后放置30分钟以产生沉淀，然后过滤，将SiO₂纳米粒子加入到过滤后的澄清液中而制成混合液，将上述混合液升温至55℃，并持续超声振荡5分钟，而后停止振荡，之后移至圆盘型玻璃模具内，升温至65℃，维持该温度并在干燥箱内固化48小时而制成毛坯，最后将上述毛坯利用氧化铝抛光粉在300-500r/min的转速下使用抛光机进行表面抛光，由此制成高厚度全息光盘(16)，厚度范围为500微米至3毫米。