[发明专利]光催化反应系统的防护装置

权利要求书

1.一种光催化反应系统的防护装置，其特征在于，包括箱体和光源支架，所述箱体包括箱体本体、上前舱门、下前舱门和后舱门，所述箱体本体具有上部空间和下部空间；所述上部空间分为密封层和操作层；所述密封层通过后舱门密封，用于安装所述光催化反应系统的系统主体；所述操作层通过上前舱门密封，用于安装所述光催化反应系统的系统阀组；所述下部空间通过下前舱门密封，用于安装所述光催化反应系统的反应器；所述下前舱门设有光窗，所述光源支架安装在与所述光窗相对应的位置，用于安装所述光催化反应系统的光源；所述箱体上设有惰性气体充填机构，用于向所述密封层、操作层和下部空间充填惰性气体。

2.如权利要求1所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述惰性气体充填机构包括与所述密封层连通的密封层进气阀、密封层出气阀，与所述操作层连通的操作层进气阀、操作层出气阀，与所述下部空间连通的下部空间进气阀、下部空间出气阀。

3.如权利要求2所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述惰性气体充填机构还包括导气管和氧气传感器，所述导气管分别与所述密封层出气阀、操作层出气阀及下部空间出气阀连接；所述氧气传感器与所述导气管连接，用于检测气体中的氧气含量。

4.如权利要求3所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述惰性气体充填机构还包括总气体分配接头，所述总气体分配接头为四通接头，所述四通接头的一个接口与外部供气设备连接，其余三个接口分别与所述密封层进气阀、操作层进气阀及下部空间进气阀连接。

5.如权利要求1所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述箱体内设有压力检测机构，用于检测所述箱体的内部压力。

6.如权利要求5所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述箱体设有抽真空阀，用于连接外部真空泵。

7.如权利要求6所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述箱体上设有脱氧器，所述脱氧器与所述密封层连接。

8.如权利要求5所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述压力检测机构为箱体压力表，所述箱体压力表连接在下部空间进气阀上，用于检测箱体内部压力。

9.如权利要求1所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述光源支架为可升降支架。

10.如权利要求1所述的光催化反应系统的防护装置，其特征在于，所述箱体设有载气进气阀和载气出气阀门，用于与色谱仪连接。