[发明专利]一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺

权利要求书

1.一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：具体步骤如下：

(1)选取原料：选取水溶性硅无定型晶体颗粒或粉末、净化水备用；

(2)制备高浓度水溶性硅溶液：

按配比取用步骤(1)中准备的水溶性硅无定型晶体颗粒或粉末、净化水，并按净化水:水溶性硅无定型晶体颗粒或粉末＝1:0.5～1.2的比例放入密闭容器内，经高温30℃～180℃、加压1～6个大气压下溶解制成高浓度水溶性硅溶液，剩余净化水备用；

或将步骤(1)中准备的净化水流经装有水溶性硅无定型晶体颗粒的储存罐，水溶性硅无定型晶体颗粒溶解至溶解罐中贮存，在溶解罐中得到高浓度水溶性硅溶液,溶液的浓度随时间的增加而增加，浓度控制在0～10000ppm；

(3)制备低浓度水溶性硅溶液：

人工手动：将步骤(2)制备的高浓度水溶性硅溶液加入到净化水中，使用TDS测试仪检测数据，TDS数值为0ppm～120ppm，得到低浓度的水溶性硅含有溶液；

或将步骤(2)制备的高浓度水溶性硅溶液通过加药器加入到净化水中形成下游水溶液，通过检测下游水溶液的电导率或PH值控制加药的速度，使用TDS测试仪检测数据，TDS数值为0ppm～120ppm，得到低浓度的水溶性硅溶液；

或将步骤(2)制备的高浓度水溶性硅溶液通过加药器加入到步骤(2)中备用的净化水中形成下游水溶液，通过检测的下游水溶液的电导率为0～8500ppm或PH值为7～12.6，以控制加入的高浓度水溶性硅溶液的速度，得到低浓度的水溶性硅溶液。

2.根据权利要求1所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：还包括有步骤(4)过滤：对步骤(2)制备的高浓度水溶性硅溶液进行过滤或/和对步骤(3)制备的低浓度水溶性硅溶液进行过滤。

3.根据权利要求2所述的一种制备具有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：所述的过滤是：经过高密度PP棉1um滤芯，阻隔未完全溶解的水溶性硅颗粒及颗粒杂质或聚合胶体；或通过活性烧结炭或颗粒碳阻隔未完全溶解的水溶性硅颗粒及颗粒杂质或聚合胶体。

4.根据权利要求2所述的一种制备具有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：还包括有步骤(5)杀菌：将步骤(4)制备的过滤后的低浓度水溶性硅溶液进行杀菌。

5.根据权利要求4所述的一种制备具有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：所述的杀菌是：煮沸杀菌或通过不锈钢管道紫外线杀菌。

6.根据权利要求4所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：还包括有步骤(6)存储：将步骤(5)制备的低浓度水溶性硅溶液存于储罐或者用于下一道产品工序的加工利用或者在100等级以上的净化无菌条件下无菌罐装。

7.根据权利要求6所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：还包括有步骤(7)贴标，阴凉避光处封库贮存。

8.根据权利要求1所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：所述的水溶性硅无定型晶体颗粒或粉末的化学式为Na₂O·nSiO₂，模数n为1～4。

9.根据权利要求1所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：所述的步骤(2)中所述的按配比取用步骤(1)中准备的水溶性硅无定型晶体颗粒或粉末、净化水的配比，即Na₂O·nSiO₂与净化水的重量配比的计算公式如下：

Na₂O·nSiO₂：净化水c＝(n×SiO₂+Na₂O)：(b×H₂O)

其中：配制水的份数：b＝(n×Si/a-n×SiO₂-Na₂O)/H₂O；

硅含量系数：a＝硅的日摄入量/水的日均摄入量；

Na的含量：d＝水的日均摄入量×2×Na/(b×H₂O+n×SiO₂+Na₂O)；

硅的含量计算：e＝水的日均摄入量×n×Si/(b×H₂O+n×SiO₂+Na₂O)。

10.根据权利要求1所述的一种制备含有水溶性硅的净化水的生产工艺，其特征在于：所述的水溶性硅无定型晶体颗粒的直径为2mm～100mm。