[发明专利]一种柔性显示基板及其制备方法与显示装置在审
申请号: | 201410363651.7 | 申请日: | 2014-07-28 |
公开(公告)号: | CN104143565A | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 任庆荣;郭炜;马凯葓 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种柔性显示基板,包括柔性材料层和显示结构,其特征在于,所述柔性显示基板还包括:设于所述柔性材料层和所述显示结构之间的激光阻挡层。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,所述激光阻挡层的材料为铟镓锌氧化物。
3.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,所述激光阻挡层的厚度为
4.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,所述柔性材料层为聚酰亚胺薄膜。
5.根据权利要求1-4任一项所述的柔性显示基板,其特征在于,所述柔性显示基板为柔性阵列基板;所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管。
6.一种柔性显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
在基板上形成柔性材料层;
在柔性材料层上形成激光阻挡层;
在激光阻挡层上形成显示结构;
通过激光剥离的方式使柔性材料层与基板分离,得到柔性显示基板。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述激光阻挡层的材料为铟镓锌氧化物,所述激光阻挡层通过磁控溅射沉积形成。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述基板为玻璃基板。
9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所制备的柔性显示基板为柔性阵列基板,所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管;所述形成显示结构包括:
形成非晶硅层;
通过激光退火将非晶硅层转变为多晶硅层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5任意一项所述的柔性显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的