[发明专利]放大器电路有效

专利信息
申请号: 201410363787.8 申请日: 2014-07-28
公开(公告)号: CN104378072B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 杰拉德·简-路易斯·布伊斯 申请(专利权)人: 安普林荷兰有限公司
主分类号: H03F3/45 分类号: H03F3/45;H03F3/26
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 浦彩华,姚开丽
地址: 荷兰奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 放大器 电路
【权利要求书】:

1.一种封装的高功率射频RF放大器电路,包括差分放大器电路,所述差分放大器电路包括:

半导体晶片,该半导体晶片具有高电阻率衬底并且包括第一LDMOS晶体管和第二LDMOS晶体管,其中,所述第一LDMOS晶体管的源极通过源极到源极的连接电连接到所述第二LDMOS晶体管的源极,

其特征在于,所述差分放大器电路还包括:

第一组多个键合引线,所述第一组多个键合引线在所述第一LDMOS晶体管的漏极与所述第二LDMOS晶体管的漏极之间延伸,

其中,所述源极到源极的连接由中间层金属形成,以使得由于所述差分放大器电路的差分操作,所述源极到源极的连接的中点成为虚拟AC地,所述第一LDMOS晶体管的源极和所述第二LDMOS晶体管的源极各自通过连接到地的物理连接进行DC接地,连接到地的所述物理连接与所述源极到源极的连接分离;并且

其中,所述高电阻率衬底具有大于50Ω*cm的电阻率。

2.根据权利要求1所述的封装的高功率射频RF放大器电路,包括:

具有法兰的封装,

其中,用于将所述第一LDMOS晶体管的源极和所述第二LDMOS晶体管的源极接地的所述物理连接各自包括第二组多个键合引线,所述第二组多个键合引线用于将所述第一LDMOS晶体管或所述第二LDMOS晶体管各自的源极连接至所述法兰。

3.根据权利要求2所述的封装的高功率射频RF放大器电路,其中,所述封装还包括漏极引线,所述差分放大器电路还包括第三组多个键合引线,所述第三组多个键合引线用于将所述第一LDMOS晶体管的漏极和所述第二LDMOS晶体管的漏极连接至相应的漏极引线。

4.根据权利要求3所述的封装的高功率射频RF放大器电路,其中,所述第一组多个键合引线横过所述半导体晶片沿第一方向延伸,并且其中,所述第三组多个键合引线平行于所述第一方向延伸。

5.根据前述任一权利要求所述的封装的高功率射频RF放大器电路,其特征在于,高电阻率衬底包括硅。

6.根据权利要求5所述的封装的高功率射频RF放大器电路,其特征在于,高电阻率衬底具有大于100Ω*cm的电阻率。

7.根据权利要求6所述的封装的高功率射频RF放大器电路,其特征在于,高电阻率衬底具有大于或等于1KΩ*cm的电阻率。

8.一种移动通信基站,其特征在于,包括根据权利要求1到7任一项所述的封装的高功率RF放大器电路。

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